SI-list【中国】Wire bonding表面处理工艺介绍--化学镀镍钯浸金(ENEPIG)

日期: 2024-05-28 17:08:42|浏览: 90|编号: 70085

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SI-list【中国】Wire bonding表面处理工艺介绍--化学镀镍钯浸金(ENEPIG)

电子产品正朝着体积更小、重量更轻、功能更多、运行效率更快的方向发展。为了满足上述要求,电子封装行业开发了多样而先进的封装技术和方法,以提高同一电路板上集成电路(IC)的密度、数量和种类。封装和连接密度的提高推动了封装方法从通孔技术(THT)向表面贴装技术(SMT)的演变,并导致了引线键合方法的进一步应用()。连接线间距的减小和芯片级封装技术(CSP)的应用提高了器件的密度,而多芯片模块(MCM)和系统级封装技术(SiP)使得在同一芯片上嵌入更多功能成为可能。到目前为止,当半导体行业多年来一直致力于通过减小线宽来提高器件性能时,却很少涉及到在电子系统中,器件应该通过包含系统的封装来传输信息的想法。大量的I/O需求和信号传输质量已成为半导体行业的重要考虑因素。 无论是IC内部的连接,还是器件封装在电路板上,为了实现可靠的连接,封装工艺的要求和电路板最终的表面处理技术同样重要。

本文介绍了影响连接可靠性的主要因素,特别关注金线键合应用中表面处理的性能。

表面处理引线键合选项

电镀镍金虽然具有优异的金线键合性能,但其存在三大缺点,阻碍了其在前沿领域的应用:较厚的金层厚度要求增加了生产成本。

在通常使用的厚金层的情况下,由于容易形成脆弱的锡金金属合金化合物(IMC),焊点的可靠性会降低。为了增加焊点的可靠性,可以在需要焊锡的地方采用不同的表面处理,但这会增加生产成本。

电镀制程需要使用导线来连接各电路,限制了封装基板的最大电路密度。

正是因为这些限制,才使得使用化学镀的优势显露出来。化学镀技术包括化学镀镍浸金(ENIG)、化学镀镍化学镀金(ENEG)和化学镀镍钯浸金(ENEG)。

在这三种方案中,ENIG基本上是不可能的,因为它不具备提供高可靠性金线键合的工艺条件(尽管它在不重要的消费产品应用中有所应用),而且ENIG的生产成本与电镀镍金一样高,在工艺方面也充满了复杂性的挑战。

1990年代末期,化学镀镍钯金(ENP)问世,2000年钯金属价格被炒到不合理的高位,延缓了其被市场接受的进程,但由于其能解决许多新型封装的可靠性问题,且符合ROHS要求,因此近年来再次受到市场关注。

除了封装可靠度上的优势外,成本也是一大优势。近年来,当金价上涨至800美元/盎司以上时,需要镀厚金的电子产品成本难以控制。而钯金属的价格(300美元/盎司)远不及金价的一半,因此用钯代替金的优势显而易见。

表面处理比较

目前市场上适用于电路板上引脚较小的QFP/BGA器件的无铅表面处理主要有四种。

化学浸锡()

化学浸银()

有机焊料保护剂 (OSP)

化学镀镍金 (ENIG)

下表列出了这4种表面处理的比较。在这4种表面处理中,没有一种表面处理能够满足无铅组装工艺的所有要求,特别是在考虑多次回流焊接能力、组装前储存时间和引线键合能力时。相反,它具有出色的储存时间、焊点可靠性、引线键合能力,并且可以用作按键触摸表面,因此其优势就显现出来了。而且,在置换金的沉积反应中,化学钯层会保护镍层不被置换金过度腐蚀。

表1 – 不同表面处理性能比较

当考虑表面处理对不同装配方式的性能时,可对应和满足多种不同装配方式的要求。

表2-不同表面处理对不同组装方法的性能

金线键合可靠性比较

在相同的引线键合条件下(采用第二次焊点拉力试验),金线键合的可靠性与电镀镍金相当。

在样品的拉力试验过程中,观察到引线键合的主要失效模式为金线处断裂,颈部有少量断裂,未发生键合点处金线断裂或断裂的情况。

结论 – 使用的好处

最重要的优点是同时具备优异的焊接可靠性与引线键合可靠性,具体优点如下:

1.防止“黑镍问题”的发生——无置换金侵蚀镍表面引起晶界腐蚀

2、化学镀钯会起到阻挡层的作用,不会出现铜迁移到金层而造成可焊性不良的问题。

3、化学镀钯层会完全溶解在焊料中,合金界面处不会出现高磷层,同时当化学镀钯溶解后会露出新的化学镀镍层,形成良好的镍锡合金。

4. 能够承受多次无铅回流循环

5. 优异的金线键合性能

6、总体来说,整体生产成本低于电镀镍金和化学镀镍化学镀金。

产品包括浸镍金技术(ENIG)、浸镍钯金技术()、电解镍金技术(-gold)和浸锡技术()。

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