含氟半导体工业废水处理方法

日期: 2024-05-30 05:04:45|浏览: 71|编号: 70439

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含氟半导体工业废水处理方法

含氟工业废水主要来源于铝冶炼、磷矿加工、磷肥生产、钢铁冶炼、煤炭等半导体燃烧过程的排放。氟是一种蓄积性毒素,含氟工业废水排入自然界,会对植物和动物产生一定的影响。下面介绍半导体行业含氟废水的具体处理方法。

目前市场上常用的处理半导体行业含氟废水的方法有离子交换法、吸附法、膜分离法和沉淀法:

离子交换:通过阴离子交换树脂进行离子交换,达到除氟的目的;

吸附法:吸附需使用专用处理药剂、设置专用设备,采用羟基磷灰石、活性氧化镁、稀土金属氧化物等新型吸附剂,可提高实际处理效果,适用于水流量较小的生活用水深度处理;

膜分离:是指利用膜的选择作用,在外界能量作用下,将污水中的溶质与溶剂分离,主要优点是效率高、工艺简单、环保、能耗低;

沉淀法:当半导体氟化废水原始氟离子浓度在1000~/L之间时,经石灰粉法处理后最终浓度达到20~30mg/L。

温馨提醒:处理期间污泥会慢慢沉降,投加一些氯化钙或者其他絮凝剂可以加快悬浮物的沉降,同时需要维持pH值比较高以降低氟离子浓度,使用磷酸盐、镁盐、铝盐等除氟效果比单纯使用钙盐更有效。

以上就是小编对半导体行业含氟废水的处理方法总结,由于不同行业含氟废水的成分、水量、浓度不同,所以具体方案还是需要具体分析。

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