印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺
申请日期
公开（公告）日期
IPC分类编号C02F1/461；C23F1/46；C25C1/12
概括
本发明提供了一种印刷电路板蚀刻清洗含铜废水的处理工艺，属于蚀刻含铜废水处理技术领域，具体涉及一种印刷电路板蚀刻清洗含铜废水的处理工艺。工艺流程包括以下步骤：电解离子膜处理、纯水回收、纯水回用、浓溶液收集、电解铜提取、浓氨水回用。本发明的有益效果是：与现有技术相比，本发明具有以下优点和效果：第一，该工艺可以实现接近于零成本的处理成本，经济效益十分可观，实现了循环经济水平高；第二，该工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水废渣的零排放，对环境无污染，社会效益好；第三，该工艺可以实现废水和蚀刻液的循环利用，并可以电解回收蚀刻液中的铜离子；最后，该工艺流程简单，易于推广使用。
索赔
1.一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其工艺流程包括如下步骤：
步骤1、电解离子膜处理：将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水由水泵引入电解离子膜设备进行浓缩分离，得到含有铜离子的纯水和浓缩蚀刻液。
第二步：纯水回收：经电解离子膜设备分离出来的水进入纯水回收池；
步骤3：纯净水回收：用水泵将纯净水回收池中的纯净水引入车间生产线进行回收利用；
步骤4：浓缩溶液收集：将步骤1分离出的蚀刻溶液收集至浓缩溶液收集池中。
第五步：电解提取铜：将浓缩溶液收集池中的蚀刻液进行电解，提取浓缩液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。
步骤6：蚀刻液重复使用：将步骤5配制的蚀刻液重新用于生产蚀刻槽中。
2.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤一中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中含有的组分包括氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素。
3.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤一中的清洗废水为碱性蚀刻清洗废水，废水中所含的组分包括氯化铵和氨水。
4.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤一中的电解离子膜设备设有直流电场。
5.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤1中的电解离子膜设备设有离子膜，废水中的离子在直流电场作用下透过离子膜，只剩下水分子，从而达到浓缩蚀刻液的目的。
6.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤2中纯水的电导率低于10us/cm。
7.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于步骤4中的蚀刻液可售给有资质的回收单位回收处理，以达到经济效益。
8.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：步骤5中蚀刻液采用电解提取铜，在电解池阴极发生还原反应生成单质铜，生成的单质铜可回收利用。
9.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：所述步骤5中设置喷射器，电解产生的可溶性气体通过喷射器溶解到蚀刻液中，实现原蚀刻液的回收。
10.根据权利要求9所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于：所述步骤5中还设置循环泵，由循环泵将蚀刻液引入喷射器。
手动的
一种印刷电路板蚀刻清洗含铜废水的处理工艺
技术领域
本发明属于含铜蚀刻废水处理技术领域，具体涉及一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。
背景技术
印刷电路板生产中的蚀刻工艺分为碱性蚀刻和酸性蚀刻，碱性蚀刻液中含有氨水，蚀刻后的清洗水中氨含量很高，另外由于氨与铜有络合作用，处理铜氨废水存在难以去除、处理成本高、难以达标等问题。
现有技术公开了一种蚀刻清洗废水的废水处理工艺，专利号为CN2.8，一种蚀刻清洗废水的废水处理工艺，包括以下步骤：絮凝沉淀、蒸发脱盐、污泥处理。絮凝沉淀包括将蚀刻清洗废水收集在废水收集池中，通过废水提升泵输送至反应池，在反应池中先加碱，调节pH值至中性，然后加入混凝剂，最后加入絮凝剂；反应池中的沉淀物在重力作用下沉入沉淀池下方的污泥斗中，反应池中的废水通过上方溢流堰流向清水池。本发明所述的蚀刻清洗废水的废水处理工艺，工艺简单，操作方便，实现了污水零排放，且处理过程中不产生有毒有害副产物，无污染，具有极高的经济效益和环境效益。处理后的蚀刻清洗废水水质清澈，无明显悬浮物，电导率≤700us/cm，前景广阔。该工艺虽然具有操作简单，生产过程无污染等优点，但仍然存在处理成本高，废水不能完全回收利用的缺点。
发明内容
为了解决上述问题，本发明的主要目的在于提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，可实现处理成本接近于零成本，经济效益非常可观，实现高度的循环经济；
本发明的另一目的在于提供一种印刷电路板蚀刻清洗含铜废水的处理工艺，该工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水、废渣的零排放，不污染环境，具有良好的社会效益；
本发明的另一目的在于提供一种印刷电路板蚀刻清洗中含铜废水的处理工艺，可实现废水和蚀刻液的循环使用，并可电解回收蚀刻液中的铜离子；
本发明的最后一个目的在于提供一种印刷电路板蚀刻清洗含铜废水的处理工艺，该工艺流程简单，易于推广使用。
为了达到上述目的，本发明的技术方案如下。
本发明提供了一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺，其工艺步骤如下：
步骤1：电解离子膜处理：用水泵将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水引入电解离子膜设备进行浓缩分离，得到含有铜离子的纯水和浓缩蚀刻液。电解离子膜产出纯水后，还可以加入阴阳树脂混床、EDI等工艺，进一步提高纯水质量。
第二步：纯水回收：经电解离子膜设备分离出来的水进入纯水回收池；
步骤3：纯净水回收：用水泵将纯净水回收池中的纯净水引入车间生产线进行回收利用；
步骤4：浓缩溶液收集：将步骤1分离出的蚀刻溶液收集至浓缩溶液收集池中。
第五步：电解提取铜：将浓缩溶液收集池中的蚀刻液进行电解，提取浓缩液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。
步骤6：蚀刻液重复使用：将步骤5配制的蚀刻液重新用于生产蚀刻槽中。
进一步的，步骤一中清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中含有的成分包括氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素等。
进一步的，步骤一中清洗废水为碱性蚀刻清洗废水，废水中含有的成分包括氯化铵、氨水等。
进一步的，步骤一中的电解离子膜设备中设置有直流电场。
进一步的，步骤1中的电解离子膜装置上设置有离子膜，废水中的离子在直流电场的作用下透过离子膜，只留下水分子，从而达到浓缩蚀刻液的目的。
进一步的，步骤2中纯水的电导率低于10us/cm。
并且，步骤4中的蚀刻液可以出售给有资质的回收单位进行回收处理，以实现经济效益。
进一步的，所述步骤5中，电解所述蚀刻液以提取铜，在电解池阴极发生还原反应生成单质铜，生成的单质铜可以回收利用。
进一步地，在步骤五中，设置喷射器，电解产生的可溶性气体通过喷射器溶解到蚀刻液中，从而将蚀刻液原样回收。
进一步地，所述步骤五中还设置循环泵，所述循环泵可将蚀刻液引入喷射器。
并且，步骤六中的蚀刻液可以回收至蚀刻槽或者交给有资质的回收单位回收利用。
而且该工艺不添加化工原料，不产生新的化学物质，实现了废水回用零排放，并实现了废水中蚀刻液的高倍数浓缩约100倍后售给有资质的单位回收利用。还可以通过电解设备将铜电解出来，电解产生的可溶性气体如氯气通过喷射器溶解到蚀刻液中，实现原蚀刻液的回用。
而且该工艺处理成本低，分离后的再生水及蚀刻液均具有回收利用价值，可实现接近于零处理成本。
而且该工艺主要用于处理酸性蚀刻清洗废水，也可用于处理碱性蚀刻清洗废水。
此外该工艺还可用于化学镀铜废水的处理。
本发明的有益效果在于，与现有技术相比，本发明具有如下优点和效果：第一，该工艺可实现零加工费，经济效益非常可观，实现了高度的循环经济；第二，该工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水、废渣的零排放，对环境无污染，社会效益好；第三，该工艺可实现废水、蚀刻液的循环利用，并可电解回收蚀刻液中的铜离子；最后，该工艺流程简单，易于推广使用。
发明人（何学文）