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1、玻璃减薄、蚀刻工艺产生的含氟废水处理工艺研究。 兆林基肖俊贤、李景超（东莞合力精细化工有限公司，广东东莞） 摘要：据东莞某公司称，电子玻璃面板减薄和蚀刻过程中产生含氟废水。 针对含氟废水，在分析其成分和含量的基础上，探讨了该类含氟废水的处理原理和工艺流程。 相应的实验表明，此类废水首先采用钠盐NaCl作为沉淀剂，沉淀部分氟离子，然后通过离心过滤除去沉淀产物，然后用消石灰调节滤液的pH值，加入氯化钙沉淀滤液中的氟离子，最后加入混凝剂PAC进行处理。 处理后废水氟离子浓度降至10mg/L。 以下，达到国家污水综合水平
2、符合一级排放标准。 关键词：含氟废水； 原则; 过程; 氯化钠; 混凝剂； 氟离子 1 研究背景 与其他硅基材和多晶硅发生反应。 随着小米、I-PHONE等智能手机的普及，产品也变得越来越轻薄。 反应方程式如下：SiO2+6HF→+2H2O。 玻璃显示屏广泛应用于智能手机等便携式设备。 鉴于氢氟酸对显示屏的影响，会对氧化硅的蚀刻速率难以控制，厚度一般会越来越低，甚至到0.3mm以下。玻璃基板的蚀刻则采用稀释的氢氟酸溶液，或者可以添加缓冲液，形成混合细化过程，这已成为重要的环节。 稀释效果直接影响产品的质量。 液体和缓冲液的成分是氟化的
3、氢氨可以补充消耗的氟离子，保证以氢氟酸为主要成分的蚀刻液通常用于玻璃蚀刻减薄，蚀刻速率可以更加稳定。 处理时，随着反应的继续深入，蚀刻液中HF的浓度会降低，但含量会增加。 当浓度达到10％～15％时，蚀刻液的粘度为3.1。 去除氟离子。 机理会增加，导致薄层蚀刻效果变差，无法继续蚀刻，最终变成危险废液，需要进行无害化处理。氟离子的机理包括两部分，一是生成不溶性氟化物。 请参阅《废水综合排放标准》（-1996），其中对废水物质进行了规定。 一旦处理过程开始，氟离子浓度就会发生变化。
4.减少； 采用同一离子中氟离子浓度排放限值：一级标准为10mg/L。 因此，需要控制含氟效果，添加强化电解质，进一步降低氟离子浓度，确保废水处理后达标后方可排放。 排放更加稳定。 目前，处理含氟废水的方法和工艺有很多种。 化学沉淀法，（1）凝固沉淀除氟离子吸附法、离子交换法、混凝沉淀法很常见，但各有其优缺点。 如果直接用石灰中和废液，则废液中的F和2点将会是。本文以上述特定含氟废水为研究目标。 通过对相关废液中SiF6离子和pH值的分析，可以满足排放标准，但会产生大量的成分和含量，减薄蚀刻
五、原理及氟离子去除 CaSO4和CaF2的混合固体属于危险废物。 根据该原理对后续处置成本进行了研究，并通过实验进行了证实。 初步组合了一套有效的无害优质废物。 基于这一点，本工艺分为两步沉淀，选择不同的沉淀处理工艺，保证处理后的氟离子浓度达到国家规定的一级药剂。 详细治疗机制如下。 排放标准要求（10mg/L）。 第一步沉淀：利用2玻璃减薄和蚀刻反应原理和过程，用NaCl或KCl在废液中形成沉淀，且不溶于酸溶液。 分离后，酸液可以回收再利用，固体Na2Si也可以
6. F6。 目前最常用的酸蚀处理方法是玻璃减薄蚀刻法。 需进一步加工生成其他含氟产品。 处理的基本原理是：配制HF混酸溶液并与玻璃混合。 二氧化硅等材料已实现“零排放”，该工艺具有良好的前景。 它是一种氧化物反应，将玻璃表面剥离，从而实现玻璃的第二步沉淀：剩余的游离氟离子形成溶解度较低的氟，这就是减薄强化作用。 其化学反应方程式为：化合盐，并使其凝固，形成沉淀，从溶液中除去。 对各种4HF+SiO2→SiF4+2H2O(1)氟化物的研究发现，最合适的选择是CaF2，因为：溶解度积小，S
7. iF4+2HF→(2)Ksp=4.0×10-11 (25℃); 来源广、价格低、成本低的废玻璃减薄液的基本配比方法是：15%~30%HF，水处理费用。 1%～5%H2SO4、3%～10%HCl和5%～20%，由(1)，根据CaF2在纯水中的溶解平衡反应方程：++2F-(2)，可得随着稀溶液中HF含量的减少而减少。 以25℃为计算参数，CaF2溶解反应的溶度积公式可以不断增加。 当浓度达到10%~15%范围时，蚀刻会增加，得到：液体粘度，导致减薄
8、处理效果减弱，需要更换新的蚀刻液。 废2+-223蚀刻液较常见的成分为：8%~13%HF、10%~15%，Ksp=[Ca]×[F]=[C]×[2C]=4C2+-2+ -5%~6%H2SO4、2%~3%HCl、5%~8%。 式中：[Ca]、[F]分别为：平衡浓度-Ca、F、mol/L； CaF2-蚀刻液中加入硫酸和盐酸的原因是蚀刻反应一段时间时的平衡浓度-C，mol/L。 .在℃下设定Ksp=4.0×1011-4后，玻璃表面