化学镀镍设备 场发射电镜（FESEM）
设备型号
紧接着的四款场发射电子显微镜分别是场发射扫描电子显微镜（FESEM）FEI Nano SEM 450、双束聚焦离子束显微镜（FIB-SEM）-ZEISS、双束聚焦离子束显微镜（FIB-SEM）-450s、双束聚焦离子束显微镜（FIB-SEM）-FEI。
原则
场发射扫描电子显微镜是一种采用尖端肖特基热场发射技术的先进显微镜。与传统扫描电子显微镜相比，场发射技术提供更强的电子束能量，使二次电子图像更清晰，理论上放大倍数可超过10万倍。此外，场发射扫描电子显微镜在进行电子背散射衍射（EBSD）测试时也显示出明显的优势。
扫描电子显微镜是利用能量在1-30kV之间的电子束以光栅扫描的方式照射到被分析样品表面，利用入射电子与样品表面材料相互作用产生的二次电子和背向散射电子来获取样品表面的微观结构和形貌信息。配备谱仪和能谱仪，利用产生的X射线对样品进行定性和定量的化学成分分析。
该仪器具有超高的分辨率，可对多种固体样品表面形貌的二次电子像及反射电子像进行观察和处理。该仪器利用二次电子成像原理，在涂覆或未涂覆的基础上，在低电压下对组织、细胞、微生物、生物大分子等生物样品进行纳米尺度的观察，获得立体感强、忠实于原貌的样品表面超微观形貌结构信息。拥有高性能的X射线能谱仪，可同时对样品表面微区点、线、面元素进行定性、半定量和定量分析，具有形貌及化学成分综合分析能力。
技术参数
FEI Nano SEM 450技术参数：
FIB-SEM - ZEISS 技术参数：
FIB-SEM-450s技术参数：
双束聚焦离子束显微镜 (FIB-SEM) - FEI 技术参数：
应用领域
适用于观察纳米材料的细微形貌，可产生高质量、高分辨率的二次电子图像。配备该仪器的X射线能谱仪可对块体样品进行定性和半定量分析。样品室内可充入多种气体，在低真空条件下仍可获得优于2nm的高分辨率图像；可将水蒸气通入样品室，可直接观察含水、含油及非导电样品；可在样品室内对样品进行加热、低温处理，可实时观察化学反应过程。本设备适用于物理、材料、半导体、超导体、化学聚合物、地质矿物、生物、医学等领域的微观研究与分析。
案例研究
用高分辨场发射电子显微镜观察支架涂层的截面形貌，涂层晶格形貌及内部缺陷清晰可见。用场发射电子显微镜观察支架涂层的截面形貌，涂层边界明显，结构及晶格形貌清晰，尺寸测量准确。此支架在常规镀镍层之上镀铜，普通的样品制备方法极易忽略此层结构，轻则造成误判，重则造成责任纠纷及经济损失！
在场发射电子显微镜下观察支架涂层的横截面形貌。此支架在铜涂层下有约30纳米的镍层，在场发射电子显微镜下仍清晰可测量！内部结构、基材或涂层的晶格、涂层缺陷一目了然，可以帮助客户和供应商解决争议，减少重测次数和费用。