雷尼镍后处理 四甲基哌啶醇合成工艺

日期: 2024-08-29 05:04:42|浏览: 82|编号: 91493

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雷尼镍后处理 四甲基哌啶醇合成工艺

背景技术

四甲基哌啶醇,化学名2,2,6,6-四甲基-4-哌啶醇,是合成受阻胺光稳定剂、药物、漂白剂、阻聚剂、环氧树脂交联剂等产品的重要中间体。目前,我国开发的受阻胺光稳定剂均为哌啶衍生物,且均为以哌啶醇为中间体的产品,因此哌啶醇的生产是我国光稳定剂发展中的重要环节。因此,对哌啶醇的合成进行研究具有重要的现实意义。

目前国内外报道的由哌啶酮还原制备哌啶醇的方法主要有以下几种:

1、催化加氢法,包括加压加氢法和常压加氢法,目前工业上主要采用加压加氢法;

2.化学还原法,用异丙醇铝、硼氢化钠等为还原剂,将哌啶酮还原为哌啶醇,但还原剂价格昂贵,且反应后处理复杂,工业上很少采用;3.电化学还原法,哌啶酮在电解池阴极还原为哌啶醇,但由于生产能耗高,电解池结构复杂等原因,工业上一般不采用。工业上主要采用的是第一种方法,德国研究人员采用Raney-Ni为催化剂,液相加氢压力为0.49~9.8MPa,哌啶醇收率可达95%左右。捷克研究人员报道采用Ni/Cr2O3、NiO/Al2O3为催化剂收率约为86%~93%,但反应条件苛刻。Ciba报道采用Ru/C为催化剂,水为溶剂,收率为91~97%。国内陈立功、张泽鹏等人也对其加氢还原进行了研究。

目前液相加氢工艺的主要缺点是:催化剂Ru/C价格昂贵,不利于工业化;二甲苯、甲苯、甲醇等溶剂的损失率大于20%,造成环境污染。

发明内容

本发明针对上述不足,开发了一种四甲基哌啶醇的合成工艺,其目的是:

本发明的技术解决方案:

四甲基哌啶醇的合成工艺:

步骤三、将四甲基哌啶酮、催化剂、片碱和水加入高压反应釜中,密封;

第二步,先向釜内通入N2取代空气,再通入H2取代N2,最后通入H2至压力为0.8MPa;

第三步,先控制高压釜内压力维持在0.8MPa,当高压釜内压力下降时,及时向高压釜内加入H2至0.8MPa,并在搅拌的同时升温,控制温度在70-100℃。重复上述操作,直至高压釜内压力在0.8MPa维持一定时间不再变化,则停止反应。

第四步,向釜内通入N2取代H2,同时向釜内盘管内通入冷却水,使釜内温度降至50℃以下,停止搅拌,滤出催化剂,蒸发掉部分水;

第五步,将剩余的过饱和母液置于冰水浴中搅拌,冷却结晶,过滤、洗涤,得到四甲基哌啶醇,将母液回收再利用。

高压反应器内装有冷却水管、压力表、搅拌器、热电偶测温仪表及加热系统。

四甲基哌啶酮、催化剂、片状烧碱和水的重量比为10:0.2至1.5:0.01至0.05:20至30。

合成过程第三步的温度为90℃。

催化剂为Raney-Ni(雷尼镍,氢活性催化还原剂,有机金属化合物)。

加入的烧碱起着促进催化、维持体系碱度的作用。

本发明的有益效果:

采用水作为反应溶剂,避免了Raney-Ni在有机溶剂中易燃的缺点,同时降低了合成成本。另外,该工艺合成的四甲基哌啶醇收率高、纯度高,色泽好,质量好,操作简便,容易实施,无环境污染,有利于推广应用。

详细描述

步骤、将四甲基哌啶酮155g、催化剂15.5g、片碱1.55g、水400g加入到带有冷却水管、压力表、搅拌系统、热电偶测温仪器和加热系统的1L高压反应釜中,密封;

第二步,向釜内通入N2取代空气,再通入H2取代N2,最后通入H2至压力为0. 8MPa ;

第三步,先控制高压釜内压力维持在0.8MPa,当高压釜内压力下降时,及时向高压釜内加入H2至0.8MPa,并在搅拌下升温,温度控制在90℃,重复上述操作,直至高压釜内压力在0.8MPa维持一定时间不再变化,停止反应。

第四步,向釜内通入N2取代H2,同时向釜内盘管内通入冷却水,使釜内温度降至50℃以下,停止搅拌,滤出催化剂,蒸发掉部分水;

第五步,将剩余的过饱和母液在冰水浴中搅拌,冷却结晶,过滤、洗涤,得到四甲基哌啶醇154g,收率98. 1% ο GC纯度: 99. 9%, 凝点: 130. 6-131. 5°C。

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