《印制电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺.pdf》由会员分享，可在线阅读。 欲了解更多《印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺.pdf（7页完整版）》请到专利查询网站搜索。
1. (19) 中华人民共和国国家知识产权局 (12) 发明专利申请 (10) 申请公开号 (43) 申请公开日期 (21) 申请号 2.9 (22) 申请日期 2020.08.10 (71)申请人何学文地址：广东省深圳市坪山区坪山街道六联社区坪山大道2007号创新广场B栋1506室（72）发明人何学文（74）专利代理机构深圳神舟联合知识产权房产代理（普通合伙） 44324 代理王志强 (51) Int.Cl. C02F 1/461 (2006.01) C23F 1/46 (2006.01) C25C 1/12 (2006.01) (54) 本发明是一种印刷电路板。
2、含铜蚀刻清洗废水处理工艺(57) 摘要本发明提供了一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，属于含铜蚀刻废水处理技术领域，具体为一种印刷电路板的含铜蚀刻清洗废水。 加工技术。 其工艺流程包括以下步骤：电解离子膜处理、纯水回收、纯水回用、浓液收集、电解铜提取、浓氨液回用。 本发明的有益效果是，与现有技术相比，本发明具有以下优点和效果：第一，本工艺可以实现接近零成本的处理成本，具有非常可观的经济效益，实现了较高的处理成本。循环经济水平； 其次，本工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水、废渣的零排放，对环境无污染，具有良好的社会效益。 再次， 。
3、本工艺可实现废水和蚀刻液的循环利用，并可电解回收蚀刻液中的铜离子； 最后，该流程简单，易于推广和使用。 权利要求书1页，说明书4页，附图1页 CN A 2020.11.24 CN A 1.一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。 其工艺流程包括以下步骤： 步骤一：电解离子膜处理：将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水用水泵引入电解离子膜设备中，进行浓缩分离，得到纯水和含有铜离子的浓缩蚀刻液。 第二步：纯水回收：将电解离子膜设备分离出的水引入纯水回收罐； 第三步：纯水回用：将纯水回收罐中的纯水抽吸。
4、进入车间生产线进行回收； 步骤4：浓缩液收集：将步骤1中分离出的蚀刻液收集至浓缩液收集池中。 第五步：电解提取铜：对浓液收集槽中的蚀刻液进行电解，提取浓缩液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。 步骤六：蚀刻液回用：将步骤五制备的蚀刻液回用至生产蚀刻槽中重复使用。 2.根据权利要求1所述的印制电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，步骤一中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中的成分包括氯化铵、盐酸、钠。氯酸盐、氯化钠、尿素。 3.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺，其特征在于，步骤一中的清洗废水为碱性蚀刻清洗废水，废水中含有的成分包括氯化物。
5、铵和氨。 4.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺，其特征在于，步骤一中的电解离子膜设备设置有直流电场。 5、根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于步骤一中的电解离子膜设备设有离子膜，废水中的离子作用于直流电场。 通过离子膜后，只剩下水分子。 从而达到浓缩蚀刻液的目的。 6.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺，其特征在于，步骤二中纯水的电导率低于10us/cm。 7.根据权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，步骤四中的蚀刻液可以出售给有资质的公司。
6、回收单位进行回收加工，实现经济效益。 8.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，步骤五中，对蚀刻液进行电解提取铜，并在阴极发生还原反应生成单质铜。电解池的。 ，产生的元素铜可以回收利用。 9.根据权利要求1所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，步骤五中设置有喷射器，电解产生的可溶性气体通过喷射器溶解到蚀刻液中。 实现蚀刻液的原始回收。 10、根据权利要求9所述的印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺，其特征在于，步骤五中还设置有循环泵，通过循环泵将蚀刻液引入喷射器中。 权利要求 1/1 页 2 CN 11197。
7、7752A 2A印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺技术领域0001本发明属于含铜蚀刻废水处理技术领域，具体涉及一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理方法废水处理工艺。 背景技术0002 印刷电路板生产中的蚀刻工艺分为碱性蚀刻和酸性蚀刻。 碱性蚀刻液含有氨水。 蚀刻后的清洗水中氨含量很高，且由于氨与铜络合，在处理铜氨废水时，存在去除困难、处理成本高、难以达标等问题。 0003 现有技术公开了一种蚀刻清洗废水的废水处理工艺，专利号为CN2.8。 一种蚀刻清洗废水处理工艺，包括以下步骤：絮凝沉淀、蒸发除盐、污泥处理。
8、. 絮凝沉淀包括将蚀刻清洗废水收集于废水收集池中，并通过废水提升泵输送至反应池。 首先向反应罐中加入碱，调节pH值至中性，然后加入混凝剂。 最后添加絮凝剂； 反应池内的沉淀物在沉淀池内靠重力沉入下方的污泥斗，反应池内的废水通过上部溢流堰流至清水池。 本发明的蚀刻清洗废水处理工艺流程简单，操作方便，实现污水零排放，处理工程中不产生有毒有害副产物，无污染，具有极高的经济效益和环境效益。 优点：处理后的蚀刻清洗废水水质清澈，无明显悬浮物，电导率为700us/cm。 其前景广阔。 虽然该工艺具有操作简单、生产过程无污染等优点，但确实如此。
9、仍存在处理成本高、废水无法充分回收利用等缺点。 发明内容0004为了解决上述问题，本发明的主要目的是提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水的处理工艺。 该工艺可以实现接近于零的处理成本，具有非常可观的经济效益，并且实现了高水平的循环。 经济; 0005本发明的另一目的是提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。 该工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水、废渣的零排放，对环境无害。 无污染，具有良好的社会效益； 0006 本发明的另一个目的是提供一种印制电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，能够实现废水和蚀刻液的循环利用，并且能够电解回收蚀刻液。 里面有铜离子。
10.; 0007本发明的最后一个目的是提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。 工艺流程简单，易于推广使用。 0008 为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。 0009 本发明提供了一种含铜印刷电路板蚀刻清洗废水的处理工艺。 其工艺流程包括以下步骤： 0010 步骤一：电解离子膜处理：利用水泵将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水引入电解室。 离子膜设备进行浓缩分离，得到纯水和含有铜离子的浓缩蚀刻液。 电解离子膜生产纯水后，可添加阴阳树脂混床、EDI等工艺，进一步提高纯水水质。 使用说明书 1/4 Page 3 CN A 3 0011 第 2 步：纯水回收：进行。
11、电解离子膜设备分离出的水引入纯水回收罐； 0012 第三步：纯水回用：纯水回收罐中的纯水用水泵引入车间生产线进行循环利用； 0013 步骤四：浓缩液收集：将步骤一中分离出的蚀刻液收集至浓缩液收集槽中。 0014 步骤五：电解提取铜：对浓液收集槽中的蚀刻液进行电解，提取浓液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。 0015 第六步：蚀刻液回用：将第五步配制的蚀刻液回用至生产蚀刻槽重复使用。 0016 进一步地，步骤一中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中含有的成分包括氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素等。 0017 进一步地，步骤一中的清洗废水为碱性蚀刻清洗。
12.废水。 废水中含有的成分包括氯化铵、氨等。 0018 进一步地，步骤一中的电解离子膜设备设置有直流电场。 0019 进一步地，步骤一中的电解离子膜设备设有离子膜。 废水中的离子在直流电场的作用下穿过离子膜，只剩下水分子。 从而达到浓缩蚀刻液的目的。 0020 进一步地，步骤二中纯水的电导率低于10us/cm。 0021 进一步地，步骤4中的蚀刻液可以出售给有资质的回收单位进行回收处理，以实现经济效益。 0022 进一步地，步骤五中，对蚀刻液进行电解提取，提取铜，并在电解槽的阴极发生还原反应，生成单质铜。 产生的单质铜可以回收利用。 0023 进一步地，上述步骤。
13.步骤五中提供喷射器。 电解产生的可溶性气体可以通过喷射器溶解到蚀刻液中，从而实现蚀刻液的原样回收。 0024 进一步地，步骤五中还设置有循环泵，循环泵可以将蚀刻液引入喷射器中。 0025 另外，第六步中的蚀刻液除了在蚀刻槽中重复使用外，还可以交由具有回收资质的单位进行回收。 0026 而且，该工艺不添加化学原料，不产生新的化学物质，实现废水回用零排放，实现废水中蚀刻液浓度高100倍左右，出售给有资质的单位回收利用。 也可通过电解设备回收。 对铜进行电解，电解产生的可溶性气体，如氯气，通过喷射器溶解到蚀刻液中，从而可以重复使用原来的蚀刻液。 第0027章 更进一步，这个过程的成本。
14、低，分离后的回用水和蚀刻液具有再利用价值，可实现接近于零的处理成本。 0028 另外，该工艺主要用于处理酸性蚀刻、清洗废水，也可用于处理碱性蚀刻、清洗废水。 0029 此外，该工艺还可用于处理化学镀铜废水。 0030 本发明的有益效果是，与现有技术相比，本发明具有以下优点和效果：第一，本工艺可以实现零成本处理成本，具有非常可观的经济效益，达到较高的水平。循环经济； 其次，本工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现了废水、废渣的零排放，对环境无污染，具有良好的社会效益。 第三，该工艺可以实现废水和蚀刻液的回收利用，并且可以电解回收。
15、蚀刻液中的铜离子； 最后，这个过程简单，易于推广和使用。 使用说明书 2/4 Page 4 CN A 4 图说明 0031 图1为本发明的工艺流程示意图。 具体实施方式0032 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例对本发明进行进一步详细说明。 应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。 0033 为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。 0034如图1所示，本发明提供了一种用于印刷电路板蚀刻的含铜清洗废水处理工艺。 其工艺流程包括以下步骤： 0035 步骤一：电解离子膜处理：放置含有铜离子的印刷电路板。
16、蚀刻清洗废水用水泵引入电解离子膜设备，浓缩分离，得到纯水和含有铜离子的浓缩蚀刻液。 0036 第二步：纯水回收：将电解离子膜设备分离后的水引入纯水回收池； 0037 第三步：纯水回收：将纯水回收池中的纯水用水泵再次引入车间生产线利用； 0038 步骤四：浓缩液收集：将步骤一中分离出的蚀刻液收集至浓缩液收集池中。 0039 步骤五：电解除铜：对浓液收集槽中的蚀刻液进行电解，去除浓液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。 0040 第六步：蚀刻液回用：将第五步配制的蚀刻液回用至生产蚀刻槽重复使用。 0041 本例中，可以在电解离子膜产生纯水后添加阴离子。
17、阳树脂混床、EDI等工艺进一步提高纯水水质。 0042 本例中步骤一的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中含有的成分包括氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素等。 0043 本例中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水。步骤一为碱性蚀刻清洗废水，废水中的成分包括氯化铵和氨水。 0044 本实施例中，步骤一中的电解离子膜设备设置有直流电场。 0045 本实施例中，步骤一中的电解离子膜设备设有离子膜。 废水中的阴离子和阳离子在直流电场的作用下穿过离子膜，只剩下水分子。 从而达到浓缩蚀刻液的目的。 0046 本例中，步骤2中纯水的电导率低于10us/cm。
18. 0047 本例中，步骤4中的蚀刻液可以出售给有资质的回收单位进行回收，以实现经济效益。 0048 在该实施例中，在步骤5中，对蚀刻溶液进行电解萃取以萃取铜。 在电解槽的阴极发生还原反应可以生成单质铜，生成的单质铜可以回收利用。 0049 本实施例中，步骤5中设置有气液混合喷射器，电解产生的可溶性气体可以通过喷射器溶解到蚀刻液中，从而实现蚀刻液的原样回收。 0050 本实施例中，步骤五中还设置有循环泵，循环泵可以将蚀刻液压推入喷射器中。 0051 本例中，步骤六中的蚀刻液除了在蚀刻槽中重复使用外，还可以交由具有回收资质的单位进行回收。 使用说明书 3/4 第 5 页 CN 11。
19. A 5 0052 本例中，该工艺不添加化学原料，不产生新的化学物质，实现废水回用零排放，实现废水中蚀刻液高倍浓度出售给合格企业回收单位。 也可以通过电解设备对铜进行电解，电解产生的可溶性气体，如氯气，通过喷射器溶解到蚀刻液中，使原来的蚀刻液得到重复利用。 0053 本例中，该工艺处理成本较低，分离出来的回用水和蚀刻液具有再利用价值，可以实现接近于零成本的处理费用。 0054 本例中该工艺主要用于处理酸性蚀刻、清洗废水，也可用于处理碱性蚀刻、清洗废水。 0055 本例中，该工艺还可用于处理化学镀铜废水。 0056 以上实施例仅用以解释本发明，本发明的保护范围并不仅限于上述实施例。 本领域普通技术人员根据本发明的上述公开内容以及各参数的范围，即可实现本发明的目的。 使用说明书 4/4 第 6 页 CN A 6 图 1 说明书附件 1/1 第 7 页 CN A 7.