镍钼钆(镝)镀层性能的研究+文献综述(6)
(1)Gd3+浓度的选择
实验按照工艺流程图2.2)进行，Gd3+浓度分别选择0.1g/L、0.2g/L、0.3g/L、0.4g/L、0.5g/L。 Gd3+浓度对镀层硬度的影响如图3.8所示。
(2)电流密度的选择
实验按2.4.3.1)进行，Gd3+浓度为0.3g/L。 电流密度分别选择为17.75A/dm2、18.5A/dm2、19.25A/dm2、20.0A/dm2、20.75A/dm2。 电流密度对镀层硬度的影响如图3.9所示。
(3)脉冲频率的选择
实验按2.4.3.2）进行，电流密度为18.5 A/dm2，分别选择脉冲频率。 脉冲频率对涂层硬度的影响如图3.10所示。
(4) 占空比的选择
实验按2.4.3.3）进行，脉冲频率为。 占空比分别选择为0.5、0.6、0.7、0.8和0.9。 占空比对涂层硬度的影响如图3.11所示。
(5)电镀时间的选择
实验按2.4.3.4）进行，占空比为0.5。 时间分别选择为10min、15min、20min、25min、30min。 电镀时间对镀层硬度的影响如图3.12所示。
(6)速度的选择
实验按2.4.3.5）进行，电镀时间为20分钟。 搅拌速度分别选择200r/min、250r/min、300r/min、350r/min、400r/min。 颗粒旋转速度对涂层硬度的影响如图3.8所示。
2.5 涂层性能测试和表征
2.5.1 涂层微观结构观察
使用日本日立S-3400扫描电子显微镜观察涂层的微观形貌。 测试条件为真空环境，电压15kV，电流30μA。
2.5.2 涂层成分分析
测量采用德国电子能谱仪进行。 测试条件为真空，电压30kv，电流70μA，采集速率3.6kcps。
2.5.3 涂层结构分析
使用0.5确定铬涂层的结构； 管电压40kV； 管电流40mA； 采用单发射极滤波； 采用2θ扫描； 扫描范围为30o~90o； 采用连续扫描； 步长为0。
2.5.4 涂层磨损量的测定
使用摩擦磨损试验机进行测量。 试验前后用酒精棉将镀件擦拭干净，用电子分析天平测量磨损前的质量m1和磨损后的质量m2，得到磨损质量损失。 测试条件为频率10Hz、温度23±1℃。 摩擦副为直径5mm的Cr球； 负载能力2N，磨损半径5mm，转速500r。
3。结果与讨论
3.1 工艺参数对Ni-Mo-Dy合金镀层硬度的影响
3.1.1 Dy3+浓度对镀层硬度的影响
图3.3 Dy3+离子浓度对涂层硬度的影响
图3.3显示了Dy3+离子浓度对涂层硬度的影响。 从图3.3可以看出，当Dy3+浓度在0.1g/L~0.3g/L范围内变化时，随着Dy3+浓度的增加，镀层硬度增加。 当Dy3+浓度在0.3g/L~0.5g/L范围内变化时，随着Dy3+浓度增大，镀层硬度降低。 当Dy3+浓度为0.3g/L时，涂层硬度达到最大值，分别为723.3HV。 此时镀层的硬度较好。
3.1.2 电流密度对镀层硬度的影响
图 3.4 显示了电流对涂层硬度的影响。 从图3.4可以看出，随着电流的增大，镀层硬度先增大后减小。 原因可能是Dy3+可以提高阴极电流效率并提高涂层沉积速率。 当电流在0.71A-0.83A范围内变化时，随着电流的增大，镀层硬度先增大后减小。 当电流为0.77A时，镀层硬度达到最大值，分别为726.6HV。 随着电流继续增加，涂层的硬度和沉积速率缓慢增加。 其原因可能是随着电流密度的增大，电镀过程中阴极极化值增大，使晶体成核率增加，镀层晶粒细化，硬度增加。 当电流继续增加超过金属离子还原的极限电流时，阴极开始出现严重的析氢和边缘效应。 涂层容易被烧焦，涂层沉积质量变差，导致涂层硬度下降。 电流为0.77A时镀层硬度最佳。上一篇：光度法测定铜合金中锰含量的研究下一篇：年产200吨邻硝基苯乙酸车间生产工艺设计+CAD图纸稀土磁性氧化钆纳米粒子的表征 稀土离子掺杂 5 氟钆钡的合成、表征及发光性能 钙钆共掺氧化铈薄膜的制备及表征 钙钆共掺铈的制备及发光性能氧化物薄膜 纳米四氟钆钠铕的制备及发光性能 铈薄膜的制备工艺研究 镍钼合金沉积层的制备及相关性能 g-C3N4 光催化剂的制备及光催化性能研究江苏高中生的身体状况巴金《激流三部曲》中高觉新的悲惨命运NFC协议物理层的软件实现+文献综述现代简约美式风格在室内家居装饰中的应用对上市公司的影响研究股权结构对企业绩效的影响浅析中国古代宗法制度中国传统游戏角色元素...高度警觉的劳动人民的元情感...C++最短路径算法研究与编程
摘要：采用电镀方法制备了Ni-Mo-Dy和Ni-Mo-Gd镀层，研究了稀土浓度（Dy3+/Gd3+）、电流密度、频率、占空比、时间和转速对Ni镀层的影响。 -钼涂层。 -Dy和Ni-Mo-Gd镀层的影响，分别通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对镀层进行了表征。 结果表明，Ni-Mo-Dy涂层的较优条件为：Dy3+浓度为0.3g/L，pH=6.7，转速为350r/min，f=，A=19.25A/dm2，占空比为0.5， t=25分钟； Ni-Mo-Gd镀层的较佳条件为：Gd3+浓度为0.3g/L，pH=6.7，转速为350r/min，f=，A=18.50A/dm2，占空比为0.5，t=20分钟。 结果表明，添加稀土（Dy3+/Gd3+）后，Ni-Mo-Dy和Ni-Mo-Gd镀层的硬度较Ni-Mo合金镀层的硬度显着提高10.38%和11.37%； Ni-Mo-Dy和Ni-Mo-Gd涂层中钼含量分别增加27.91%和22.69%，摩擦系数分别降低21.43%和37.5%。 本文获得的Ni-Mo-Dy镀层和Ni-Mo-Gd镀层国内尚未见报道。 5629
关键词：稀土； 电镀； 脉冲; 镍钼合金；
， 在里面 -
：这是基于 Ni-Mo-Dy 和 Ni-Mo-Gd 的。 然后在上述基础上，研究了Ni-Mo-Dy和Ni-Mo-Gd、Ni-Mo-薄膜上的稀土(Dy3+/Gd3+)、、、占空比和时间。 Dy稀土Dy3+为0.3g/L，pH=6.7，转速350r/min，f=，A=19.25A/dm2，占空比0.5，t=25min； Gd3+的Ni-Mo-Gd稀土薄膜的Ni为0。
3g/L，pH=6.7，转速350r/min，f=，A=18.50A/dm2，占空比0.5，t=20min。 然后对两组最佳片进行了XRD、SEM、磨损后的稀土合金晶粒更加细化、平坦、Mo的磨损。
分别为10.38%、11.37%、27.91%、22.69%。 同时，Ni-Mo-Dy合金层和Ni-Mo-Gd合金层比Ni-Mo合金层高21.43%和37.5%。 Ni-Mo-Dy 和 Ni-Mo-Gd 还没有。
：稀土； ; 脉冲; - 合金;
目录
1 简介 1
1.1 钼合金的性能及应用1
1.2 钼及钼合金镀层工艺研究现状1
1.2.1 钼层沉积工艺研究现状1
1.2.2 钼合金沉积工艺研究现状2
1.3 脉冲电镀机理及其优点3
1.3.1脉冲电镀机理3
1.3.2 脉冲电镀的优点4
1.4稀土元素在电镀中的作用4
1.5 本文主要研究内容 6
1.5.1 项目来源6
1.5.2 研究内容6
2 实验第7部分
2.1 实验试剂和设备7
2.1.1 实验试剂7
2.1.2 实验设备7
2.2 实验材料与设备 8
2.2.1 实验材料8
2.2.2 实验装置8
2.3 工艺流程9
2.3.1 电镀液的成分 9
2.3.2电镀工艺9
2.4电镀工艺条件的选择11
2.4.1电镀Ni-Mo-Dy合金11工艺条件的选择
2.4.2电镀Ni-Mo-Gd合金12工艺条件的选择
2.5 涂层性能测试和表征13
2.5.1 镀层显微形貌观察 13 上一篇：光度法测定铜合金中锰含量的方法研究 下一篇：年产200吨邻硝基苯乙酸车间生产工艺设计+CAD图 罕见地磁氧化钆纳米颗粒的制备及表征稀土离子掺杂五氟化钆钡的合成表征及发光性能钆掺杂氧化铈薄膜的制备及发光性能研究。 镍钼合金沉积层制备工艺及相关性能研究 g-C3N4光催化剂的制备及光催化性能研究江苏省某中学生身体状况现状调查研究巴金《激流三部曲》高觉新的悲惨命运 NFC协议物理层的软件实现+文献综述 现代简约美式风格在室内家居装饰中的应用 上市公司股权结构对经营业绩的影响研究 浅析股权结构的作用中国古代宗法制度博弈中的中国元素……高度警觉的劳动人民的元情感……C++最短路径算法研究与编程
2.5.2 涂层成分分析13
2.5.3涂层结构分析13
2.5.4 涂层磨损量的测定13
3 结果与讨论 14
3.1 工艺参数对NI-MO-DY合金镀层硬度的影响16
3.1.1 Dy3+浓度对镀层硬度的影响16
3.1.2 电流密度对镀层硬度的影响17
3.1.3 脉冲频率对涂层硬度的影响18
3.1.4 暂载率对涂层硬度的影响19
3.1.5电镀时间对镀层硬度的影响20
3.1.6 转速对涂层20硬度的影响
3.2 工艺参数对NI-MO-GD合金镀层硬度的影响21
3.2.1 Gd3+浓度对镀层硬度的影响21
3.2.2 电流密度对镀层硬度的影响22
3.2.3 脉冲频率对涂层硬度的影响23
3.2.4 暂载率对涂层硬度的影响24
3.2.5电镀时间对镀层硬度的影响25
3.2.6 转速对涂层硬度的影响25
3.3 XRD衍射分析29
3.3.1 不同涂层的结构衍射分析29
3.4 不同涂层的磨损分析30
3.4.1 不同涂层的摩擦系数 图30
3.4.2 不同涂层磨损质量对照表32
3.5 涂层成分分析27
3.5.1镀层微观形貌分析27
4 结论 37
5 致谢 38
参考文献 39
1 简介
1.1 钼合金的性能及应用
钼的线膨胀系数较低，仅相当于普通钢的1/3～1/2，与二氧化硅相似。 低膨胀系数使钼材料在高温下尺寸稳定，降低了破裂的风险。 钼的导热系数是许多高温合金的数倍，约为铜的1/2。 钼的电导率较高，为铜电导率的1/3，并随温度升高而降低。 钼具有非常高的弹性模量，是业内最高的弹性模量之一，并且受温度影响较小。 即使在800℃时仍高于普通钢在室温下的值。 较小的热中子俘获面也是钼的重要特性之一，这使得钼可以用作核反应堆中心的结构材料。 钼比钨具有更好的延伸性能，可以加工成非常薄的箔片和非常细的金属丝 [ ], [ ]。
钼合金具有良好的导热性、导电性和较低的膨胀系数。 在高温（1100~1650℃）下具有高强度，比钨更容易加工。 钼被誉为“工业精华”，通常用作合金和不锈钢的添加剂。 它可以增强合金的强度、硬度、焊接性和韧性，以及增强其高温强度和耐腐蚀性。 钼基合金是以钼为基体并添加其他元素的有色合金。 主要合金元素有钛、锆、铪、铼、钨和稀土元素。 形成的合金主要有TZM、TZC、钼铼合金等。钼基合金克服了纯钼的一些缺点，得到广泛应用。 在合金钢中添加钼可以提高弹性极限、耐腐蚀性和保持永磁性[ ]，[ ]。
1.3 脉冲电镀机理及其优点
1.3.1 脉冲电镀机理
脉冲电镀的电化学原理：在一个脉冲周期内，当接通电流时，阴极极化增强，待镀金属离子在阴极区附近充分沉积，沉积层结晶细密、光亮； 当电流关闭时，阴极区附近放电的离子恢复到初始浓度，浓度差消除。 脉冲电镀具有三个电极过程：液相传质过程、吸附和解吸过程以及双电层的电容效应。
(1)脉冲电镀在液相传质过程中，阴极表面附近的金属离子浓度不断变化：开启时，金属离子浓度因沉积而降低； 当关闭时，金属离子通过迁移、对流和扩散在液相中传导。 在阴极上形成扩散层，导致浓度再次上升。
(2)吸附和解吸过程与直流相比，脉冲电镀在阴极表面有吸附和解吸两个过程：在一个脉冲周期内，在传导期间，金属离子穿过扩散层，被吸附在阴极表面，在带电界面处发生电子转移并进入阴极晶格形成沉积层，并伴随着氢和一些杂质的吸附。 吸附的氢气和杂质在脉冲间隔期间解吸并返回溶液，使沉积层纯度高、结构致密、孔隙率低。上一篇：光度法测定铜合金中锰含量的方法研究下一篇：年产200吨邻硝基苯乙酸车间生产工艺设计+CAD图纸稀土磁性氧化钆纳米颗粒的制备与表征稀土离子掺杂5氟钆钡的合成、表征及发光性能钙的制备与表征钆共掺氧化铈薄膜 钙钆共掺氧化铈薄膜的制备及发光性能 纳米四氟钆掺铕钠薄膜的制备及发光性能 铈薄膜的制备工艺研究 制备及相关性能镍钼合金沉积层的制备 g-C3N4 光催化剂的制备及光催化性能研究 江苏省某高中生身体状况调查研究 巴金“激流三部曲”中高觉新的悲惨命运 NFC 协议物理物理的软件实现层次+文献综述 现代简约美式风格在室内家居装饰中的运用 上市公司股权结构对经营绩效的影响研究 中国古代宗法制度简析 游戏角色中的中国传统元素……高度警觉工作的元情绪人...C++最短路径算法研究与编程
(3)双电层电容效应。 固体表面在溶液中带电后，静电引力会吸引溶液中带相反电荷的离子。 它们会向固体表面靠近，并聚集在距两相界面一定距离的溶液一侧的界面区域。 当达到电荷平衡时，形成双电层。 根据斯特恩模型，双电层分为致密内层和分散外层。 脉冲开启和关闭时间对应于双电层的充电和放电时间。 由于脉冲电流的弛豫作用，消除了浓差极化，脉冲电镀效果比直流好。
图1.1 典型的周期性换相脉冲电流
1.3.2 脉冲电镀的优点
1) 提高镀液分散能力
2）镀层结晶细小
3）消除或减少涂层的氢脆
4) 涂层沉积速度加快
5）提高镀液纯度
1.4 稀土元素在电镀中的作用
由于稀土元素具有未填充的4f电子结构和电负性小的特点，因此稀土元素对非金属元素具有很强的化学亲和力。 通过在镀液中添加稀土离子，可以利用稀土元素的一些特性，有效提高传统镀液的性能。 其功能如下：
(1)诱导效应
它可以诱导一些金属离子，增加沉积速率，特别是毒性高、污染严重的重金属的沉积[1]。
(二)导体的作用
它可以有效提高电荷转移、金属转移和金属沉积速度[5][9]。
(3)特性吸附
由于稀土离子的吸附特性，提高了阴极氢离子的析出电位，吸附膜选择性地阻挡氢离子，减少氢脆。 同时，阴极提高了阴极极化，从而提高了涂层性能。 离子电结晶时稀土金属易吸附在晶体生长的活性点上，能有效抑制晶体生长，使镀层晶粒细化，表面光亮细腻。
(4)晶体成核
稀土高熔点氧化物作为晶核包含在涂层中，起到细化结构晶粒的作用[5]9]。 稀土元素由于其独特的原子结构特征和活性，在表面科学和工程领域得到了广泛的应用。 在镀液中添加适量的稀土离子，可以借助稀土元素的活性特性，有效提高传统电镀工艺中镀液的性能。 能有效促进涂层中金属离子的沉积，提高金属转移、电荷转移和金属沉积的效率。 速度，即提高电镀速度。 由于稀土离子的吸附特性，提高了阴极氢离子的析出电位，吸附膜选择性地阻挡氢离子，减少“氢脆”的危害。 同时，阴极提高了阴极极化和电流效率。 稀土金属离子电结晶时，很容易吸附在晶体生长的活性点上，能有效抑制晶体生长，使镀层晶粒细化，表面光亮细腻。
潘丙锁、史冬梅等人在普通镍镀液的基础上研究了不同量的稀土添加对镍和镍钴金镀层性能的影响，并比较了稀土和硫酸钴的改善能力镀镍的特性。 。 实验结果表明，1g/L的稀土元素可以极大地改善镍反镍钴合金镀层的性能，使镀层结晶、致密。
肖顺华等人研究了稀土元素对化学复合镀RE-Ni-Mo-P-WC合金镀层沉积速率的影响，并探讨了稀土元素的作用机理。 实验结果表明，稀土元素的添加加速了复合涂层的沉积速率。 其中，混合稀土的作用最为明显； 稀土可以促进金属基体表面活性离子的吸附，增加阴极极化，改变界面双电层结构，从而加快沉积速率。
刘平等. 研究了在Ni-Mo合金镀液中添加Gd盐制备稀土Gd改性Ni-Mo合金电极。 实验结果表明，电极表面晶粒细化，增大了电极表面积，提高了Ni-Mo合金电极的析氢催化活性。
1.5 本文的主要研究内容
1.5.1 项目来源
该项目来自国家自然科学基金委。
1.5.2 研究内容
(1)单因素对Ni-Mo-Dy镀层和Ni-Mo-Gd镀层的影响
本文主要研究稀土浓度(Dy3+/Gd3+)、电流密度、脉冲频率、占空比、镀覆时间和旋转粒子速度对Ni-Mo-Dy镀层和Ni-Mo-Gd镀层的影响。
（2）镀层表征分析 上一篇：光度法测定铜合金中锰含量的方法研究 下一篇：年产200吨邻硝基苯乙酸车间生产工艺设计+CAD图纸稀土磁性钆的制备稀土离子掺杂五氟化钆和钡的合成和发光性质的表征。 钙-钆共掺杂氧化铈薄膜的制备及其性能表征。 铕掺杂纳米四氟化钆钠的制备及表征发光特性的研究。 掺钆氧化铈薄膜的制备工艺研究镍钼合金沉积层的制备及相关性能。 g-C3N4光催化剂的制备及光催化性能研究江苏省某中学生身体状况调查研究巴金《激流三部曲》高觉新的悲惨命运 NFC协议物理层的软件实现+文献综述 现代简约美式风格在室内家居装饰中的应用 上市公司股权结构对经营绩效的影响研究 作用浅析中国古代宗法制度中的中国传统元素在游戏中的体现...高度警觉的劳动人民的元情感...C++最短路径算法研究与编程
对两组较好的镀层板材Ni-Mo-Dy镀层和Ni-Mo-Gd镀层分别进行镀层微观形貌分析、镀层成分分析、XRD衍射分析、镀层磨损分析，得到最终的实验结果。
2 实验部分
2.1 实验试剂及设备
2.1.1 实验试剂
表2.1 实验试剂及规格
试剂名称 规格 生产厂家
二水钼酸钠 AR 国药集团化学试剂有限公司（上海试验）
氯化铵AR 国药集团化学试剂有限公司（上海试验）
柠檬酸
氯化镍
柠檬酸钠 AR
增强现实
AR国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
氯化钠
氢氧化钠
碳酸钠
磷酸钠
硅酸钠 AR
增强现实
增强现实
增强现实
AR国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
国药化学试剂有限公司（上海试验）
无水乙醇 AR 国药集团化学试剂有限公司（上海试验）
盐酸AR 国药集团化学试剂有限公司（上海试验）
上海应用技术学院化工系去离子水
2.1.2 实验设备
表2.2 实验所用仪器
仪器名称 型号 生产厂家
电子Libra BS 224S 北京赛多利斯仪器系统有限公司
电脑全自动监控多脉冲电镀电源SMD-C30 邯郸市大顺电镀设备有限公司
超声波清洗机 上海科道超声波仪器有限公司
恒温磁力搅拌器S25-2 上海思乐仪器有限公司
雷磁牌实验室pH计PHSJ-4A上海雷磁仪器厂
数字显微文丘里硬度计 沃尔伯特测量仪器（上海）有限公司
热膨胀仪 DIL 402C 耐驰科学仪器有限公司
扫描电子显微镜 S-3400 日立电子株式会社
X 射线衍射仪 MRD 荷兰
电子能谱仪 APEX2 AXS GmbH，德国
人工智能管式电阻炉SGM68 西格玛高温电炉有限公司
电热恒温鼓风干燥箱 DGH-9076A 上海精密实验设备有限公司
低速金刚石切割机SYJ-150 沉阳科精装备制造有限公司
2.2 实验材料与设备
2.2.1 实验材料
基材：高温镍合金（40mm×20mm×0.7mm）。 其组成如表2-3所示。
阳极材料：150mm×30mm×2mm规格镍阳极板
表2-3 高温镍合金的成分和性能
化学成分/% 性能
Ni Cr Co Mo W Al Fe Ti 硬度/HV
53.01 19.29 9.16 6.14 6.32 2.37 2.52 1.19 450
2.2.2 实验装置
电镀实验装置如图2.1所示：
图2.1 实验装置示意图
2.3 工艺流程
2.3.1电镀液的成分
表2.4 电镀液成分 上一篇：光度法测定铜合金中锰含量的方法研究 下一篇：年产200吨邻硝基苯乙酸车间生产工艺设计+CAD图制备及表征稀土磁性氧化钆纳米颗粒稀土离子掺杂五氟化钆和钡的合成、表征及发光性能。 钙钆共掺杂氧化铈薄膜的制备及表征。 纳米四氟钆钠掺杂铕的制备及其发光性能掺钆氧化铈薄膜的制备工艺研究镍钼合金熔敷层的制备及相关性能研究 g-C3N4光催化剂的制备及光催化性能研究江苏省某中学生身体状况调查研究巴金“激流三部曲” 高觉新 NFC协议物理层软件实现的悲惨命运+文献综述 现代简约美式风格在室内家居装饰中的应用 上市公司股权结构对经营业绩的影响研究 古今简析中国的宗法制度中国传统元素在游戏中的角色...高度警惕的劳动人民元情感...C++最短路径算法研究与编程
成分含量（克/升）
•2H2O 16g/L
氯化钠11克/升
•2H2O
O7·2H2O 3g/L
17克/升
氯化铵
氯化镍 6g/L
10克/升
2.3.2 电镀工艺
本实验采用的阴极为高温镍合金（40mm×20mm×0.7mm），平均硬度为450HV。 电镀阴极的预处理在整个电镀过程中至关重要，因为镍片表面存在一些杂质、氧化层、油污等。 处理不当会极大地影响电镀质量。 为了获得附着力良好的镀层，必须进行一系列的镀前处理，去除这些阻碍镀层金属中原子根据基体晶格结构外延生长的阻碍层。
阴极镍片镀前处理工艺流程图2.2如下：
图2.2 工艺流程图
1）抛光：使用0＃〜6＃套管砂纸（由上海砂纸工厂生产）来抛光镍片，以达到类似镜面的效果。
2）脱脂液体脱脂：由于在加工，运输和储存过程中，灰尘和油不可避免地会粘附在镍条的表面上，因此必须在预处理过程中首先去除这些油脂和其他信徒，以使预处理效果更好。 打磨后随着液体脱脂而脱脂。 服用80G/L氢氧化钠，40G/L碳酸钠，10g/L磷酸钠和7.5g/L硅酸钠，准备一升降解液体，将其放入超声机器中，然后将其用超声波振动以溶解其。 将50毫升倒入一个小烧杯中，将50毫升去离子水倒入另一个小烧杯中，将其放入恒温器中，然后将其加热至90度以上。 首先将镍块放入脱脂液体中，然后脱脂约15分钟。 最后，将其取出并用去离子水冲洗，然后将其放入另一个烧杯中，然后用热水将其洗涤以除去油。
3）稀酸蚀刻：稀酸蚀刻是一个相对强的表面纯化过程，主要用于去除零件表面上的油污渍，锈产物和氧化物膜。 盐酸对金属氧化物具有很强的溶解能力，但是元素镍和非氧化稀酸之间的相互作用非常慢，因此很难引起底物和氢的过度腐蚀。 尽管盐酸的蚀刻能力与其浓度成正比，但由于其高挥发性，通常不使用非常浓缩的盐酸。 在室温下，它通常不超过360g/L。 在加热下使用的盐酸的浓度应较低。 该实验中使用的稀盐酸浓度为10％（质量分数），蚀刻时间为1〜2分钟。
4）电镀：该实验中的电镀是100毫升小烧杯，所需的电镀溶液为50ml，用50毫升移液器移液。 电镀实验装置如图2.1所示。 在实验中，阳极是150mm×30mm×2mm的电解镍板，阴极是40mm×20mm×0.3mm的高温镍合金。 这两个板彼此平行，距离约为30毫米，并且不接触烧杯的底部以防止与磁转子发生碰撞。 电镀后，首先用自来水冲洗样品，然后用乙醇进行超声清洁，然后用吹风机干燥，然后将其放入电气恒温爆破烤箱中，以在测试前干燥。
2.4电镀过程条件的选择
2.4.1电镀Ni-Mo-DY合金的过程条件选择
（1）选择DY3+浓度
根据过程流程图2.2进行实验，并选择DY3+浓度分别为0.1G/L，0.2G/L，0.3G/L，0.4G/L和0.5G/L。 DY3+浓度对涂层硬度的影响如图3.3所示。
（2）选择电流密度
该实验是根据2.4.2.1）进行的，DY3+浓度为0.3G/L，并且当前密度被选为17.75A/DM2、18.50A/DM2、19.25A/DM2、20.0A/DM2和20.755 A/DM2。 电流密度对涂层硬度的影响如图3.4所示。
（3）选择脉冲频率
该实验是根据2.4.3.2进行的，电流密度为19.25 A/DM2。 分别选择脉冲频率。 脉冲频率对涂层硬度的影响如图3.5所示。
（4）选择占空比
根据2.4.3.3进行实验，脉冲频率为。 占空比分别选择为0.5、0.6、0.7、0.8和0.9。 占空比对涂层硬度的影响如图3.6所示。
（5）选择电镀时间
根据2.4.3.4进行实验，占空比为0.5。 时间分别为10分钟，15分钟，20分钟，25分钟和30分钟。 电镀时间对涂层硬度的影响如图3.7所示。
（6）选择速度
实验是根据2.4.3.5进行的，电镀时间为25分钟。 搅拌速度分别为200r/min，250r/min，300r/min，350r/min和400r/min。 颗粒旋转速度对涂层硬度的影响如图3.8所示。预防文章：对铜合金中锰含量的光度测定方法的研究下一篇文章：生产过程设计 + 200吨O-的CAD图纸硝基苯基乙酸每年的准备工作和稀土磁性氧化物纳米颗粒的稀有掺杂5综合，表征和发光特性的稀土磁性大地纳米颗粒的表征。 氧化钙氧化岩钙薄膜的制备和表征。 研究氧化钙氧化岩钙薄膜的特性研究。 纳米三氟钠钠掺杂的欧洲钠的制备和发光特性。 研究掺杂的氧化。 研究铜薄膜制备的制备过程以及镍溶剂合金沉积层制备的制备和G-C3N4光催化剂研究的光催化性能研究的研究和研究的研究和研究研究以及研究江苏省一名高中生的身体状况“ GAO 的悲惨命运NFC协议软件实施物理层的实施 +文献审查现代简单的美国风格在室内家庭装饰研究中对上市公司权益结构对商业绩效的影响的影响，对古代中国父权制的中国传统元素的简要分析游戏角色...高度警觉的工作人员的元声音... C ++最短路径算法研究和编程
图3.4电流对涂层硬度的影响
3.1.3脉冲频率对涂层硬度的影响
图3.5频率对涂层硬度的影响
图3.5显示了频率对涂层硬度的影响。 从图3.5可以看出，当频率在范围内变化时，随着频率的增加，涂层的硬度会缓慢而定期增加。 当频率在范围内变化时，涂层的硬度随着频率的增加而缓慢增加。 当〜之间的频率变化时，涂层的硬度随着频率的增加而显着增加。 当频率为时，涂层硬度达到最大值，即781.66hv。 可能的原因是，当频率在较大范围内，即，当周期较小时，脉冲电源的放松很容易增加阴极激活极化并降低浓度极化，请促进涂料的细化，并增加涂层的硬度。
3.1.4占空比对涂层硬度的影响
图3.6占空比涂层硬度的影响
图3.6显示了占空比对涂料硬度的影响。 从图3.6可以看出，当占空比在0.5到0.6之间变化时，随着占空比的增加，涂层的硬度会迅速减小：当占空比在0.6到0.8之间变化时，涂层的硬度慢慢降低：占空比。循环在0.8-0.9之间变化时，涂层硬度再次显着降低。 当占空比为0.5时，最大涂料硬度为753.44hv。 原因可能是，随着占空比的平均电流密度的增加，峰值电流将随占空比的增加而降低。 另外，随着峰值电流削弱，镀层溶液中的稀土DY3+可能会吸附在阴极上。 能力也变得较弱，阴极极化降低，涂料晶粒逐渐变大，从而降低了涂层的硬度。
3.1.5电镀时间对涂层硬度的影响
图3.7显示了电镀时间对涂层硬度的影响。 从图3.7可以看出，当电镀时间为10分钟时，涂层几乎没有完全形成。 涂层不仅易碎，而且粘结力也极差。 涂层开始略微触摸，因此没有研究价值。 当电镀时间在15到30分钟内变化时，随着电镀时间的增加，沉积速率略有增加，然后急剧减少。 涂层的硬度显着增加，然后随着电镀时间的增加而减小。 当时间为25分钟时，涂层的硬度会增加。 最大值是781.38hv。
图3.7电镀时间对涂层硬度的影响
图3.7显示了电镀时间对涂层硬度的影响。 从图3.7可以看出，当电镀时间为10分钟时，涂层几乎没有完全形成。 涂层不仅易碎，而且粘结力也极差。 涂层开始略微触摸，因此没有研究价值。 当电镀时间在15至30分钟内变化时，随着电镀时间的增加，沉积速率略有增加，然后急剧减少。 涂层的硬度显着增加，然后随着电镀时间的增加而减小。 当时间为25分钟时，涂层的硬度会增加。 最大值是781.38hv。
3.1.6颗粒速度对涂层硬度的影响
图3.8颗粒速度对涂层硬度的影响
图3.8显示了颗粒速度对涂层硬度的影响。 从图3.8可以看出，随着旋转颗粒的旋转速度增加，涂层的沉积速率逐渐增加。 原因可能是DY3+可以提高阴极电流效率并增加涂料沉积速率。 当旋转速度在200R/min-400r/min的范围内变化时，涂层的硬度首先会增加，然后随着旋转速度的增加而降低。 当旋转速度为350R/min时，涂层的硬度分别达到最大值，分别为758.22。 高压。 随着旋转速度继续增加，涂层的硬度缓慢增加。 原因可能是随着旋转速度的增加，电镀溶液流动得更快，并且络合剂的络合能力也会加速。 当旋转速度在350r/min至400r/min之间时，硬度会降低。 镀金溶液的流量可能太快了，这加速了金属离子向阴极表面的扩散，从而减少了阴极极化并降低了涂层的质量。 它表明，当旋转速度保持在350R/min时，反应适合进行。
3.2过程参数对Ni-Mo-GD合金涂层硬度的影响
3.2.1 GD3+浓度对涂层硬度的影响
图3.8 GD3+离子浓度对涂层硬度的影响
图3.8显示了GD3+离子浓度对涂层硬度的影响。 从图3.8可以看出，当GD3+浓度在0.1g/l〜0.3g/l范围内变化时，随着GD3+浓度的增加，涂层的硬度会增加。 当GD3+浓度在0.3g/ l〜0.5g/时变化时，当L范围变化时，随着GD3+浓度的增加，涂层的硬度会降低。 当GD3+浓度为0.3G/L时，涂层的硬度分别达到最大值，分别为788.32hv。 当GD3 +浓度为0.3G/L时，涂层的硬度是最佳的。预防文章：测定铜合金中锰含量的光度法研究下一篇文章：生产过程设计 + 200吨O-硝基苯基乙酰基的CAD图纸酸性研讨会每年制备和稀土磁性氧化物纳米颗粒的稀土离子掺杂5合成，表征和发光特性的氟加多林钡制剂的制剂以及钙 - 甲二氧化钙共掺杂的氧化岩质薄膜的制备和钙化性质的钙的表征 - 纳米二氟钠四氟二氟氟钠钠的制备和发光性能 - 氧化碳纤维 - 加德多林钠掺杂的研究的制备和发光性能，该研究在铜薄膜制备过程中的制备过程和镍 - 溶剂合金层的相关性能和相关特性的g- C3N4光催化剂调查和研究对江苏省高中学生的身体状况Gao 在BA Jin的“ ” NFC方案软件的实施 +文学审查现代简单美国风格的家居装饰研究的应用程序中，上市公司权益结构对业务绩效的影响，对中国古代父权制系统的简短分析中国传统元素在游戏角色上...高度警觉的元声音... C ++最短路径算法研究和编程
3.2.2电流密度对涂层硬度的影响
图3.9电流对涂层硬度的影响
图3.9显示了电流对涂层硬度的影响。 从图3.9可以看出，当电流在0.71-0.74a的范围内变化时，涂层的硬度随电流的增加而逐渐增加。 当电流为0.74a时，涂层的硬度为最大值，即748.16hv。 当电流在0.77A-0.83A范围内变化时，涂层的硬度开始减小。 原因可能是随着电流密度的增加，在电镀过程中增强阴极极化，而阴极的过量电势会增加。 它可以增加产生晶体核的机会，晶体核的产生速率大于晶体核的生长速率，镀层的镀层，结构是致密的，硬度会增加。 当电流继续增加超过金属离子恢复的极端电流时，阴极开始进行严重的氢分析，并且涂层很容易燃烧，从而导致镀层的硬度降低。 当电流为0.74a时，涂层的硬度最大。
3.2.3脉冲频率对涂层硬度的影响
图3.10是脉冲频率对脉冲频率硬度和沉积速率的影响。 从图3.10可以看出，频率对涂层硬度的影响。 当频率在范围内变化时，随着频率的增加，涂层的硬度缓慢且规则。 当频率在范围内变化时，随着频率的增加，镀层层的硬度会逐渐增加。 当〜之间的频率随着频率的增加而变化时，电镀层的硬度会缓慢增加。 当频率达到电镀的最大值时，涂层的最大值为771.2hv。 可能的原因是，当频率在较大范围内时，即，在周期期间的时期的放松很容易增加，并且阴极激活的极化很容易增加阴极激活极化，即促进镀层谷物的改进，并改善涂层的硬度。
图3.10脉冲频率对涂层硬度的影响
3.2.4职责比较层的硬度的影响
如图
图3.11是占据涂层硬度的效果。 从图3.11中可以看出，义务比较涂层的硬度的影响。 当占空比在0.5-0.6之间变化时，随着占空比的增加，涂料的硬度迅速下降：当占空比在0.6-0.8之间变化时，涂层的硬度在变化时的硬度很慢，涂层的硬度为再次显着减少。 当职业比为0.5时，网格硬度为776.6hv。 原因可能是，随着占用比的增加，在平均电流密度的相同条件下，阴极峰值电流随占空比的增加而降低，阴极极化降低，这相当于DC平板。 另外，电镀流体中的稀土GD3+可能随着峰值电流而减弱，吸附到阴极的能力也减弱了，阴极极化减少，并且镀层层的晶粒逐渐变大，导致降低涂层的硬度。 从数字可以看出，占空比为0.5是最好的硬度。
3.2.5电镀时间对涂层硬度的影响
图3.12电镀时间对涂层硬度的影响
图3.12是电镀时间对涂层硬度的影响。 从图3.12可以看出，当电镀时间为10分钟时，电镀层几乎没有完整的形成。 镀层层不仅酥脆，而且组合力也极为差。 当涂层轻轻撞击时，电镀层开始掉落，因此没有研究值。 当电镀时间在15-20分钟内变化时，随着电镀时间的增加，涂层的硬度逐渐增加，并且20分钟时20分钟时涂层的最大硬度为720.34hv。 当电镀时间在20-30分钟内变化时，随着电镀时间的增加，涂层的硬度会缓慢减小。 当电镀时间在15-30分钟内变化时，镀金层的硬度增加到一个峰值，然后随着电镀时间的增加而逐渐减小，涂层的最大硬度为20分钟为543.922hv 。 当电镀时间在20〜30分钟的范围内变化时，涂层的硬度会略有减少。 当时，涂层在20分钟处的硬度是最好的。
3.2.6颗粒速度对电镀硬度的影响
图3.13是颗粒速度对涂层硬度的影响。 从图3.13可以看出，随着旋转颗粒的速度增加，涂层的沉积速率逐渐增加。 原因可能是GD3+可以提高阴极电流的效率并增加镀层的沉积速率。 当速度在200R/min-400r/min的范围内变化时，涂层的硬度在速度提高之前会增加，当速度为350r/min时，涂层的硬度分别达到最大值，分别达到764.59，分别分别分别分别分别分别为764.59，分别为764.59，分别为764.59。 高压。 当速度为200r/min-350r/min时，随着速度的增加，电镀层的硬度逐渐增加。 原因可能是因为随着速度的增加而加快电镀流体的流量，这加快了络合剂的络合能力。 当速度为350R/min-400R/min时，硬度会降低。 这可能是因为流体流动过快，这加快了金属离子向阴极表面扩散的速度，从而减少了阴极极化和涂层质量的减少。 说明该反应适用于保持在350R/min条件下的速度。预防：在光学方法研究中测量铜合金中锰的含量的方法：下一项：200吨氮苯二氮的年度生产过程设计稀土磁氧化纳米颗粒氟和发光性能钙板球的合成表示，氧化物膜的制备掺杂量及其特征性钙板球与氧化物膜性能混合。 G-C3N4光催化剂的制备以及G-C3N4光催化剂的光学催化性能。 研究江苏省一名高中生的现状。 物理层+文献的软件实施回顾了室内家庭装修中的现代极简主义美国风格。 ... C ++最短电路直径算法研究和程序设计
图3.13颗粒速度对涂层硬度的影响
图3.13是颗粒速度对涂层硬度的影响。 从图3.13可以看出，随着旋转颗粒的速度增加，电镀层的沉积速率逐渐增加。 原因可能是GD3+可以提高阴极电流的效率并增加镀层的沉积速率。 当速度在200R/min-400r/min的范围内变化时，涂层的硬度在速度提高之前会增加，当速度为350r/min时，涂层的硬度分别达到最大值，分别达到764.59，分别分别分别分别分别分别为764.59，分别为764.59，分别为764.59。 高压。 当速度为200r/min-350r/min时，随着速度的提高，电镀层的硬度越来越缓慢。 原因可能是因为随着速度的增加而加快电镀流体的流量，这加快了络合剂的络合能力。 当速度为350R/min-400R/min时，硬度会降低。 这可能是因为流体流动过快，这加快了金属离子向阴极表面扩散的速度，从而减少了阴极极化和涂层质量的减少。 说明该反应适用于保持在350R/min条件下的速度。
3.3涂料成分的分析3.3.1金属镀金组合物的金属分析上一：在光方法中测量铜合金锰含量含量的方法研究下一篇：200吨氮苯基 - 苯基 - 苯基苯基的年度生产过程设计的制备和制备和纳米颗粒的纳米颗粒的表示以及稀土离子的合成表示以及五氟蛋白和发光性能钙板球的混合物掺杂氧化膜制备，其特征性钙板掺杂氧化物膜表现。 研究镍钼合金沉积的镍钼合金沉积层的研究以及G-C3N4光催化性能在江苏省“三三部三部曲” 的新悲剧命运命运命运NFC实体软件实施+现代微型美国风格的现代化案例审查现代化室内家庭装修，上市公司的股权结构对运营绩效的影响。 游戏角色...高级作品的情绪... C ++最短电路直径算法研究和程序设计