半导体行业污染物排放标准
目录
前言
本标准规定了水污染物和大气污染物的排放限值、半导体企业的监测和监督要求以及标准实施和监督的相关规定。
本标准未规定的污染物项目，仍执行相应的国家或地方污染物排放标准。
本标准实施后，新发布的国家行业标准严于本标准的，按国家标准执行。 环境影响评价文件或者排污许可证要求严于本标准的，按照批准的环境影响评价文件或者排污许可证执行。
本标准按照GB/T 1.1起草。
本标准为首次发布。
本标准由江苏省生态环境厅提出并归口。
本标准于2019年12月11日经江苏省人民政府批准。
半导体行业污染物排放标准
1 范围
本标准规定了半导体企业水污染物和大气污染物的排放标准限值、监测要求、达标判定、实施和监管。
本标准适用于半导体企业水污染物排放管理和大气污染物排放管理，以及半导体企业排污许可证管理、建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收、以及生产后污染控制和管理。 。
半导体企业与污水集中处理设施协商确定企业水污染物间接排放限值时，本标准也适用于污水集中处理设施的水污染物排放管理。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。 凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本文件。 凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB 3095 环境空气质量标准
GB 3838 地表水环境质量标准
GB/T 7466 水质中总铬的测定
GB/T 7467 水质中六价铬的测定 二苯卡巴肼分光光度法
GB/T 7470 水质中铅的测定 双硫腙分光光度法
GB/T 7471 水质中镉的测定 双硫腙分光光度法
GB/T 7475 水质中铜、锌、铅、镉的测定 原子吸收分光光度法
GB/T 7484 水质中氟化物的测定 离子选择电极法
GB/T 7485 二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法测定水质中总砷
GB/T 7494 水中阴离子表面活性剂的测定 亚甲基蓝分光光度法
GB 8978 废水综合排放标准
GB/T 11893 水质总磷的测定 钼酸铵分光光度法
GB/T 11901 水中悬浮物测定重量法
GB/T 11907 水质银的测定 火焰原子吸收分光光度法
GB/T 11910 水中镍的测定 二乙酰肟分光光度法
GB/T 11912 水质的测定 镍火焰原子吸收分光光度法
GB 13271 锅炉大气污染物排放标准
GB/T 15432 环境空气中总悬浮颗粒物的测定 重量法
GB/T 15516 空气质量 甲醛的测定 乙酰丙酮分光光度法
GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物的测定及气态污染物采样方法
GB/T 16489 水质中硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法
HJ/T 27 固定污染源废气中氯化氢的测定 硫氰酸汞分光光度法
HJ/T 28 固定污染源废气中氰化氢的测定 异烟酸-吡唑啉酮分光光度法
HJ/T 30 固定污染源废气中氯的测定 甲基橙分光光度法
HJ 38 固定污染源废气中总烃、甲烷和非甲烷总烃测定的气相色谱法
HJ/T 42 固定污染源废气中氮氧化物的测定 紫外分光光度法
HJ/T 43 固定污染源废气中氮氧化物的测定 盐酸萘乙二胺分光光度法
HJ/T 55 大气污染物无组织排放监测技术导则
HJ/T 60 水中硫化物的测定 碘量法
HJ/T 65 大气固定污染源锡的测定 石墨炉原子吸收分光光度法
HJ/T 67 大气固定污染源中氟化物的测定 离子选择电极法
HJ 75 固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测技术规范
HJ 76 固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测系统技术要求及检测方法
HJ 84 离子色谱法测定水质中无机阴离子
HJ/T 91 地表水和污水监测技术规范
HJ/T 195 水质中氨氮的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 199 水质总氮的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 200 水质中硫化物的测定 气相分子吸收光谱法
HJ/T 397 固定源废气监测技术规范
HJ/T 399 水质化学需氧量的测定 快速消解分光光度法
HJ 484 容量分光光度法测定水中氰化物
HJ 485 水质的测定 二乙基二硫代氨基甲酸铜钠分光光度法
HJ 486 水质铜的测定 2,9-二甲基-1,10-菲咯啉分光光度法
HJ 487 茜素磺酸锆目视比色法测定水质中的氟
HJ 488 水质中氟化物的测定 氟试剂分光光度法
HJ 489 水质银的测定 3,5-Br2-PADAP分光光度法
HJ 490 水质测定银镉试剂2B分光光度法
HJ 493 水质采样样品保存与管理技术规定
HJ 494 水质采样技术导则
HJ 495 水质采样方案设计技术导则
HJ 501 水质中总有机碳的测定 燃烧氧化-非色散红外吸收法
HJ 533 环境空气和废气中氨的测定 纳氏试剂分光光度法
HJ 534 环境空气中氨的测定 次氯酸钠-水杨酸分光光度法
HJ 535 水质中氨氮的测定 纳氏试剂分光光度法
HJ 536 水质氨氮的测定 水杨酸分光光度法
HJ 537 水质中氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法
HJ 544 离子色谱法测定固定污染源废气中硫酸雾
HJ 548 固定污染源废气中氯化氢的测定 硝酸银容量法
HJ 549 离子色谱法测定环境空气和废气中氯化氢
HJ 604 环境空气中总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定 直接进样气相色谱法
HJ 636 水质总氮的测定 碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法
HJ 637 水质石油、动植物油的测定 红外分光光度法
HJ 644 环境空气中挥发性有机物的测定 吸附管进样-热解吸/气相色谱-质谱法
HJ 657 空气和废气颗粒物中铅及其他金属元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
HJ 659 测定水氰化物等的真空检测管电子比色法
HJ 665 水质中氨氮的测定 连续流动水杨酸分光光度法
HJ 666 水质中氨氮的测定 流动注射水杨酸分光光度法
HJ 667 水质中总氮的测定 连续流 盐酸萘乙二胺分光光度法
HJ 668 流动注射-盐酸萘乙二胺分光光度法测定水质中总氮
HJ 670 水质中磷酸盐和总磷的测定 连续流动钼酸铵分光光度法
HJ 671 水质中总磷的测定 流动注射钼酸铵分光光度法
HJ 683 环境空气中醛、酮类化合物的测定 高效液相色谱法
HJ 692 固定污染源废气中氮氧化物的测定 非色散红外吸收法
HJ 693 固定污染源废气中氮氧化物的测定 恒电位电解法
HJ 694 水质中汞、砷、硒、铋、锑的测定 原子荧光法
HJ 700 电感耦合等离子体质谱法测定水质中65种元素
HJ 732 固定污染源废弃挥发性有机物采样气囊法
HJ 734 固定污染源废气中挥发性有机物的测定 固相吸附-热脱附/气相色谱-质谱法
HJ 759 环境空气中挥发性有机物测定罐取样/气相色谱-质谱法
HJ 776 电感耦合等离子体发射光谱法测定水质中32种元素
HJ 777 电感耦合等离子体发射光谱法测定空气和废气颗粒物中的金属元素
HJ 828 水化学需氧量的测定 重铬酸盐法
HJ 836 固定污染源废气中低浓度颗粒物的测定重量法
HJ 908 水质六价铬的测定 流动注射二苯卡巴肼光度法
HJ 955 环境空气中氟化物的测定 过滤器取样/氟离子选择电极法
HJ 970 水质和石油产品的测定 紫外分光光度法
《污染源自动监测管理办法》（国家环境保护总局令第28号）
《环境监测管理办法》（国家环境保护总局令第39号）
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
3.1
半导体公司
从事半导体分立器件或集成电路制造、封装和测试的企业。
3.2
现有业务
指本标准实施日前已建成投产或环境影响评价文件已获批准的半导体企业。
3.3
新企业新
指自本标准实施之日起，通过环境影响评价文件并经批准的新建、改建、扩建半导体产业建设项目。
3.4
直接排放
是指排污单位直接向环境水体排放水污染物的行为。
3.5
间接排放
排污单位向污水集中处理设施排放水污染物的行为。
3.6
污水集中处理设施
向两个及两个以上污水排放单位提供污水处理服务的污水处理设施，包括各种规模、类型的城镇污水集中处理设施、产业集群（经济技术开发区、高新技术产业开发区、出口加工区等）。各类工业园区）集中污水处理设施，以及两个以上污水排放单位共用的其他污水处理设施等。
3.7
移位
企业或生产设施在企业法定范围之外排放的废水量。 包括与生产直接或间接相关的各类排放废水（包括工厂生活污水、冷却废水、工厂锅炉及电站废水等）。
3.8
单位产品的基线位移
为确定水污染物排放浓度而规定的单位产量污水排放量上限。
3.9
挥发性有机化合物、VOC
参与大气光化学反应的有机化合物，或按照有关规定测定的有机化合物。 在表征VOCs总体排放量时，根据行业特点和环境管理要求，可采用总挥发性有机物（以TVOC表示）和非甲烷总烃（以NMHC表示）作为污染物控制项目。
3.10
非甲烷总烃非-
除甲烷（以碳计）以外的碳氢化合物的总称，使用指定的监测方法时，探测器会产生显着的响应。 本标准采用“非甲烷总烃（NMHC）”作为排气管道和厂界挥发性有机物排放综合控制指标。
3.11
总挥发性有机化合物 (TVOC)
采用规定的监测方法，测定废气中的单项挥发性有机化合物，将其相加，得到挥发性有机化合物总量，按单项挥发性有机化合物的质量浓度之和计算。 实际工作中，占总量90%以上的个别挥发性有机化合物应根据预期的分析结果进行测量并总结。
3.12
标准状态
温度为273.15K、压力为101 325 Pa时的状态。本标准规定的大气污染物排放浓度限值以标准条件下的干燥气体为基准。
3.13
企业边界
指半导体产业企业的法律边界。 如果法定边界难以确定，则指企业的实际边界。
4 水污染物排放控制要求
4.1 水污染物排放限值见表1。
4.2 企业向城镇污水处理厂排放废水时，其排放的第二类水污染物应达到表1间接排放限值； 废水进入具有处理该污水技术和能力的工业污水集中处理厂的企业，其排放的第二类水污染物，可以与工业污水集中处理厂约定间接排放限值，并签订协议签署并报当地环境保护部门备案。 企业与工业废水集中处理厂约定的间接排放限值不得大于《污水综合排放标准》规定的接管限值。 未签订协议的企业，其第二类水污染物执行表1间接排放限值。
4.3 土地开发密度较高、环境承载能力开始减弱，或水环境容量较小、生态环境脆弱，容易出现严重水环境污染问题，需要采取特殊保护措施的地区的企业，根据根据生态环境保护工作要求，执行表1规定的专项排放限值。
水污染物特别排放限值的实施地域范围和时间由省生态环境主管部门或者设区的市人民政府规定。
表1 水污染物排放限值
单位为毫克/升
序列号
污染物项目
直接排放限值
特殊排放限值
间接排放限值
污染物排放监测地点
总镉（以 Cd 计）
0.05
0.01
0.05/0.01a
车间或生产设施废水排放口
总铬（以 Cr 计）
0.5
0.5
0.5/0.5
六价铬（以Cr6+计）
0.1
0.1
0.1/0.1
总砷（以As计）
0.2
0.1
0.2/0.1
总铅（以Pb计）
0.2
0.1
0.2/0.1
总镍（以镍计）
0.5
0.1
0.5/0.1
总银（以Ag计）
0.3
0.1
0.3/0.1
氟化物（以F计）
10
15
企业废水主要排放口
总铜（以Cu计）
0.3
0.3
0.3
10
总锌
1.0
1.0
1.0
11
硫化物（以S计）
1.0
1.0
1.0
12
总氰化物（以CN-计）
0.2
0.2
0.2
13
pH（无量纲）
6.0～9.0
6.0～9.0
6.0～9.0
14
悬浮固体（SS）
50
20
250
15
化学需氧量 (COD)
60
50
300
16
氨氮
10
20
17 号
总氮
15
10
35
18
总磷
1.0
0.5
3.0
19
石油公司
3.0
1.0
5.0
20
阴离子表面活性剂（LAS）
1.0
0.5
1.0
21
总有机碳（TOC）
20
15
90
“/”左右两侧分别对应实行排放限值和特别排放限值地区的一类污染物间接排放限值要求。
4.3 不同类型的半导体生产企业，单位产品基准排水量应符合表2的规定。
表2 单位产品的基线位移
序列号
产品规格
单元
单位产品的基线位移
污染物排放监测地点
≤6英寸芯片产量
立方米/个
3.2
排水测量位置与污染物排放监测位置一致
8英寸芯片生产
立方米/个
6.0
12英寸芯片量产
掩模层数为35层或以下
立方米/个
11
掩模层数大于35层
20
包装产品
传统包装产品
m3/千件产品
2.0
晶圆级封装产品
立方米/个
11
分立器件
m3/万件产品
3.5
注：本表中规定的单位产品基准位移值应按完整生产条件计算。
4.4 水污染物排放限值适用于单位产品实际排水量不高于单位产品基准排水量的情况。 当单位产品实际排水量超过单位产品基准排水量时，应将实测水污染物浓度按式（1）折算为水污染物基准排放浓度，水污染物基准排放浓度为作为判定排放是否达标的依据。 产品产量和排水量统计周期为1个工作日。
企业生产设施同时生产两种或两种以上产品时，不同行业可以适用不同的排放控制要求或污染物排放标准，且生产设施产生的污水混合排放时，按《环境污染防治法》规定的最严格浓度排放。执行排放标准。 限值，并按式（1）折算水污染物基准水排放浓度：
(1)
式中：
ρ基——水污染物基准排水量排放浓度，单位为mg/L；
Q总——排水总量，单位为m3；
Yi——某种产品产量，产品单位见表2；
Qi基——某种产品的单位产品基准排水量，产品单位见表2；
ρ实——实测水污染物排放浓度，单位为mg/L。
若Q总与 ∑Yi Qi基的比值小于1，则以水污染物实测浓度作为判定排放是否达标的依据。
5 大气污染物排放控制要求
5.1 有组织的排放控制要求
5.1.1 大气污染物排放限值见表3。
表3 大气污染物排放限值
单位为毫克/立方米
序列号
污染物项目
最高允许排放浓度
颗粒物
20
硫酸雾
5.0
氯化氢
10
氟化物（以 F 计）
1.5
氮氧化物
50
氰化氢
0.5
氯
5.0
氨
10
锡及其化合物
1.0
10
胂乙
1.0
11
磷化氢b
1.0
12
异丙醇
40
13
三氯乙烯b
1.0
14
苯
1.0
15
苯系列c
25
16
甲醛
5.0
17 号
非甲烷碳氢化合物总量
50
18
总挥发性有机化合物
100
a 适用于酸洗、贴膜等工段产生的工艺废气。
b待国家污染物监测方法标准发布后实施。
c 苯系列包括苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、乙苯和苯乙烯。
5.1.2 废气收集处理系统应与生产工艺设备同步运行。 当废气收集处理系统出现故障或接受检查时，相应的生产工艺设备应停止运行，并在检查完成后同时投入使用。 生产工艺设备无法停车或不能及时停车的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。 措施。
5.1.3 进入VOCs燃烧（焚烧、氧化）装置的废气含氧量是否能满足自燃和氧化反应，且不需要额外空气（需要额外空气助燃的燃烧器除外） ，以实测浓度作为判定是否合格的依据。 但装置出口处烟气的含氧量不应高于装置入口处废气的含氧量。
其他VOCs处理设施如吸附、吸收、冷凝、生物、膜分离等应以实测浓度作为判断达标的依据，不得稀释排放。
进入VOCs燃烧（焚烧、氧化）装置的废气，如需补充氧气（空气）进行燃烧、氧化反应，应将实际测得的排气管内空气污染物排放浓度折算为基础氧含量3 %按式（2）计算大气污染物排放基准浓度。
(2)
在公式：
基准——大气污染物基准排放浓度，单位为mg/m3；
O基——干烟气的基本氧含量，%；
——实测干燥烟气氧含量，%；
实际——实测空气污染物排放浓度，单位为mg/m3。
5.1.4 排放氯气、氰化氢的排气管高度不应小于25m,其他排气管高度不应小于15m(出于安全考虑或特殊工艺要求的除外)。 具体高度和与周围建筑物的距离应根据环境影响评价文件确定。
5.1.5 不同排放控制要求的废气混合从排气管排放时，应在废气混合前进行监测，并执行相应的排放控制要求； 如果可选的监测位置只能监测混合废气，则应遵循各种排放控制要求中最严格的要求。
5.2 无组织排放控制要求
企业厂界空气污染物一小时平均浓度应当符合表4规定的限值。
表4 企业厂界空气污染物浓度限值
单位为毫克/立方米
序列号
污染物项目
浓度限值
氯化氢
0.2
氰化氢
0.024
氯
0.4
硫酸雾
1.2
氨
1.0
甲醛
0.2
苯
0.4
非甲烷碳氢化合物总量
2.0
6 污染物监测要求
6.1 污染物监测的一般要求
6.1.1 企业应当按照《环境监测管理办法》等规定，建立企业监测制度，制定监测计划，对污染物排放情况及其对周围环境质量的影响进行自行监测，保存原始监测记录，并发布监测结果。
6.1.2 企业安装污染源排放自动监测设备的要求，按照有关法律和《污染源自动监测管理办法》执行。
6.1.3 企业应按照环境监测管理规定和技术规范的要求，设计、建设和维护永久性采样口、采样测试平台和排污口标志。
6.1.4 企业排放的废水、废气采样应根据监测污染物种类在指定的污染物排放监测点进行。 若有废水、废气处理设施，应在设施后面进行监测。
6.2 水污染物监测要求
6.2.1 水污染物监测采样按照HJ/T 91、HJ 493、HJ 494、HJ 495的规定执行。
6.2.2 企业排放水污染物浓度测定采用表5所列方法标准。
6.2.3 本标准颁布实施后，表5所列污染物如有新发布的国家环境监测分析方法标准，且方法适用范围和条件相同的，也适用于表5所列污染物的国家环境监测分析方法标准。测定本排放标准对应的污染物。
表5 水污染物浓度测定方法标准
序列号
污染物项目
标准名称
标准编码
PH值
水pH值测定 玻璃电极法
GB/T 6920
悬浮固体（SS）
水质悬浮物的测定重量法
GB/T 11901
化学需氧量 (COD)
水质化学需氧量的测定重铬酸盐法
沪江828
水质化学需氧量的测定快速消解分光光度法
HJ/T 399
总有机碳（TOC）
水质中总有机碳的测定 燃烧氧化-非色散红外吸收法
HJ501
总氰化物
水质氰化物的测定容量法和分光光度法
沪江484
水质、氰化物的测定等真空检测管-电子比色法
沪江659
石油公司
水质.石油、动植物油的测定.红外光度法
沪江637
紫外分光光度法测定水质石油类