铜系废水、铬系废水处理工艺简介
摘要：全厂废水分为含铜废水、含铬废水和含铜杂质废水。含铜废水是电解铜箔阶段产生的高硫酸铜浓度生产废水，废水中除硫酸铜外，其他杂质含量极少，废水量较大。在铜箔制造过程中，表面处理阶段会产生含Cr6+的废水，由于含有一定量的杂质，在一期废水处理设计中不考虑回收利用，仅采用氧化还原加化学沉淀法进行处理。
XX公司是一家生产、销售电解铜箔的专业公司，整个建设项目分为两期，水处理项目由日本道嘉工业株式会社设计、施工。
1 废水处理工艺设计
1 1 水质和水量
根据工艺生产过程中排放废水性质，全厂废水分为含铜废水、含铬废水、含铜杂质废水，分别进行处理，一期生产废水水质及水量见表1。
表1 生产废水水质水量差异
序列号
废水名称
水量（m3/d）
水质（毫克/升）
ͭϵˮ
电解铜水
320
铜2+ 50
SO42-200
ͭϵˮϴˮ
70
六价铬 50
SO42-200
铬水
电解铬水
六价铬 300
nA+ 130
镀铬洗水
310
六价铬 80
锌 50
SO42-16
钠+ 290
铜杂排水
140
铜2+ 80
SO42-225
钠+ 125
电解铜所用水的pH值为2.5-2.6。
1 2 纯水部分回收工艺
铜废水是电解铜箔阶段产生的硫酸铜浓度较高的生产废水，废水中除硫酸铜外，含有的杂质很少，废水量较大，因此采用离子交换法进行废水再生处理，既节省了大量化学处理所需的试剂，又可以生产出一部分纯水供工艺生产使用。
工艺流程：废水首先进入铜废水收集池，然后由泵送至活性炭塔去除水中的有机杂质，再进入离子交换塔，最后进入纯水池。离子交换再生产生的少量废水和活性炭塔反洗产生的少量废水收集后排入铜杂质排水系统进行化学处理。
1.3 废水处理工艺
①含铬废水
铜箔生产过程中，在表面处理阶段会产生含Cr6+的废水，由于含有一定量的杂质，在废水处理一期设计中未考虑回收利用，仅采用氧化还原加化学沉淀法进行处理。
工艺流程：废水先进入铬废水收集池，然后由水泵提升至还原反应池，在还原反应池中加入稀硫酸和亚硫酸氢钠，控制还原反应池内p值在2~3之间，控制氧化还原电位ORP在180~250mV之间，将Cr6+还原为Cr3+。
还原反应处理后的废水排入铜废液排水系统进行化学沉淀处理。
② 铜废水排水系统
铜箔生产过程中冲洗或清洗用的废水杂质多、水质差、难以回收利用，设计时将此废水与之前的铜系统再生反洗废水、还原后的含Cr3+废水一起进行化学处理。
工艺流程：废水先进入铜杂质排水槽，与铜系统再生反洗废水混合后由泵送至中和反应池，在中和反应池中加入氢氧化钠或稀硫酸，调节p值至9-11，再加入氯化钙，生成金属氢氧化物颗粒。
废水由中和反应池自流重力进入混凝池，在混凝池中加入高分子絮凝剂，形成含有大量矾花的废水，自流重力进入沉淀池。沉淀池进行固液分离后清水流入中水池，再由水泵抽至机械过滤器进一步固液分离，再分离后的出水流入二级中和池，调节p值至6-85，最后经监测池监测后排放。污泥由污泥泵抽入污泥浓缩池，浓缩后由泵送至板框式
污泥脱水机，脱水后的泥饼装袋运出。
③一期工程自动控制
采用p计、ORP计自动监测废水水质及化学反应情况；加药系统由加药泵、自动阀门控制；进出水由水泵、液位计、自动阀门控制；再生系统由电导率仪、反冲洗泵、电动阀门控制；反冲洗系统由时间继电器、自动阀门控制。水处理运行状况由模拟屏显示，处理后出水水质达到国家《污水排入城镇下水道水质标准》（G78-86）的要求。
运行实践证明，该系统操作简单，管理方便，运行结果稳定，更适用于水质波动较小的重金属废水处理系统。
2、二期废水处理工艺简介
二期工程于1998年4月正式竣工投产。二期工程利用一期建设的预留场地和部分生产、动力设施，新增投资约3000万元人民币，新增年产各类电解铜箔2400吨的生产能力。
①二期废水水质与一期相似，处理工艺在一期处理工艺基础上，增加含Cr6+废水回收处理系统。
工艺流程：生产过程产生的铬废水分为两部分，即工艺生产线直接排放的铬废水回收系统和清洗排放的铬杂质排水废水系统。铬回收采用离子交换法处理，并采用
部分工艺采用纯水，再生、反洗产生的含Cr6+废水排入一期铬废水系统，含铬杂质外排废水直接排入一期铬废水处理系统。
②二期新增废水处理系统与原系统一样采用自动化控制，与原系统相比，其最大的特点是增加了一次性投资，但节省了用水量，降低了处理成本。这对于水质要求高、废水产量大的工厂来说，无疑是一种更加可行、有效的废水处理解决方案。