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玻璃减薄蚀刻工艺产生的含氟废水处理工艺研究
赵林吉肖俊贤李景超（东黄合力精细化工有限公司，东东黄）
摘要：以东莞某公司在电子玻璃面板减薄和蚀刻过程中产生的含氟废水为背景，在分析其成分和含量的基础上，对该类含氟废水的处理进行探讨。
原理及工艺流程，相应实验表明，此类废水首先采用钠盐NaCl作为沉淀剂，沉淀部分氟离子，然后将沉淀产物通过离心机。
滤液经心过滤除去，然后用消石灰调节滤液pH值，加入氯化钙沉淀滤液中的氟离子，最后加入混凝剂PAC处理，氟离子浓度的废水得到处理
处理后降至10毫克/升以下，达到国家污水综合排放一级标准。
关键词：含氟废水； 原则; 过程; 氯化钠; 混凝剂； 氟离子
研究背景
j其他最佳基材可与多级硅发生反应。
随着小米、I-PHONE等智能手机的普及，产品变得越来越轻薄。
反应式如下：
玻璃显示屏广泛应用于手机、智能手机等便携式设备。
氢氟酸会使氧化蚀刻速率难以控制，所以一般使用
厚度越来越低，总共减少了不到0.3mm。在玻璃基板上蚀刻时，请使用稀释的氢氟酸溶液，也可以在混合物中添加高级魔术剂，形成混合物。
细化过程成为重要环节。 稀释效果直接影响产品的质量。 日用液和缓和剂的成分为氢化氨，可以补充消耗的化学离子，保证
以往玻璃蚀刻减薄通常采用以氢氟酸为主要成分的蚀刻液，蚀刻速率可以更加稳定。
处理时，随着反应的不断深入，腐蚀溶液的浓度会降低。 3、去除氟离子的反应原理
当它们的含量增加，浓度达到10%~15%时，蚀刻液的粘度会降低。
会增加，导致薄蚀刻和划伤效果变差，无法继续蚀刻，最终变成
3.1 氟离子去除机理
危险废液需处理
氟离子化机理包的内容物由两部分组成，即细小的、不溶性的氟
查阅《废水综合排放标准（-19960）》，其中规定了废水物质。 一旦处理开始，氯的浓度就会降低。 使用相同的氯。
中氟离子浓度排放限值：一级标准10mg/L。因此，需要控制含氟效果，添加光化学电解质，进一步降低氟离子浓度，保证废水
废水经过处理达标后方可排放。
排放更加稳定。
目前，处理含氟废水的方法和技术有很多，其中包括化学沉淀法。
(1)凝固沉淀去除氟离子
吸附法、离子交换法、混凝沉淀法很常见，但各有其优缺点。
此类废液若直接用石灰中和，废液中的F将
观点。 本文以上述特定含氟废水为研究对象，对废液SiF进行比较。 2离子和pH值均能满足排放标准，但大量
从成分和数量分析，减薄蚀刻原料中去除的CaSO2和CaF2与氟离子的混合固体，属于危险废物，后续处置成本极高。
其原理经过实验研究和证实，初步实现了有效无害的组合。至此，该工艺分为两步沉淀，分别选择使用不同的沉淀。
化学处理工艺确保处理后的氟离子浓度达到国家规定的一级药剂。 详细治疗机制如下。
排放标准要求（10mg/l-）。
步骤·沉淀：用NaCl或KCl溶解废液。
2、玻璃薄蚀刻逆向原理及流程
。 或者K-SiF。 形成沉淀，但在酸中不存在
目前最常用的酸蚀处理方法是斜面玻璃减薄蚀刻法，应
酸液经溶解分离后可回收再利用，也可用于处理固体、
K2SiF进一步加工生成其他含氟产品，使其
使用的原理是：配制III混合浴溶液，将其与玻璃中的二氧化硅和其他金混合
这是一种氧化物反应，会剥落玻璃表面，从而实现玻璃和木材的“零排放”。 该技术具有良好的前景。
减薄强化的效果。化学反应方程式为
步骤∷沉淀：剩余的自由离子形成低溶解度
411+西欧-西普, 2110
化合物盐并使其固化，从而从溶液中除去共形成的沉淀物和各种
对狐狸化合物的研究发现，最合适的选择是CaF2。 原因是：溶解度积小
诚波液基本配比方法为：13%～料，（2）Ksp>-4.0×10-"（25C）；来源更广，价格更低，浪费更少
先生，我，西罗
水处理费用。
1%~5%H2SO4、3%~10%HCl和5%~20%NHHF2，由（1）得出，
根据CaF2在纯水中的溶解平衡反应方程：CaF2==Ca2++2F
(2) 可以发现，随着稀释液中HF含量的降低，
以25℃为计算参数，溶解CalI2可得溶度积公式
量继续增加，当总浓度达到109%～15%范围时，腐蚀加剧。
如果蚀刻液的粘度降低，则减薄导电图案的效果就会减弱，需要更换新的蚀刻液。
IIE较常见的成分有：8%-13%IIE、10%-15%[I、Sil6
Ksp-Ca2+‖xIT‖-LC‖x2C‖P-4C3
9%~6%、2"%~3%HCI、5%~8"%
式中:Ca2J.IF"分别为:平衡浓度Ca2-,r~,mol/L;Ca2
之所以在蚀刻液中加入硫酸和盐酸，是因为反应正在进行。
平衡浓度为-C，mol/T。 CaF在25℃时的Ksp=4.0×10
雕刻后，玻璃表面会生成不溶性物质氟化物，阻碍雕刻反应并导致玻璃与表面分离。
代入式得：C-2.15×10-mol/1，此时CaF2
表面蚀刻不均匀，但硫酸、盐酸能溶解不溶物，蚀刻效果不均匀。
溶解反应达到平衡时F的浓度为：
良好。玻璃的蚀刻主要基于HF酸溶液，它可以与二氧化碳发生良好的反应，但不会
L 2×C2×2.15×10-1×19.0x10°8.17mg/L
2016 年 6 月 化学 1117