ITO导电玻璃化学镀镍及镀镍层的性能研究

【摘要】：由于ITO（氧化铟锡）透明导电薄膜特殊的光学和电学性能，被广泛应用于触摸屏、显示器、有机发光二极管、太阳能电池等领域，带来巨大的经济效益。在其应用中，有些ITO电路需要进行部分金属化，并在其表面镀上一层镍。镍层的质量非常重要，需要研究镀镍工艺和配方。本文主要研究化学沉积法对ITO导电玻璃进行选择性金属化以及磁控溅射法在ITO表面镀镍的研究。目前，化学镀镍广泛应用于航空航天、化工、电子、钢铁防腐等行业。世界各地的科研人员也对化学镀镍进行了广泛的研究。然而，在ITO导电玻璃上选择性化学镀镍的研究尚未完成。少一点。针对ITO表面金属化，本文对镀镍液配方、镀镍工艺及镀前处理进行了系统研究，并对化学沉积法获得的镀镍层与磁控溅射法获得的镀层方法进行了比较。用于比较的镍层。在设计镀镍液配方的过程中，根据ITO的特性，经过多次试验、综合考虑，确定了镀镍液配方。通过对比实验结果确定，采用过二硫酸钾作为酸性蚀刻液，蚀刻液温度为30℃，蚀刻时间为2～4分钟，蚀刻效果良好。在传统的敏化活化镀镍步骤中，人们发现敏化液中不能使用氯化亚锡。氯化亚锡的添加会导致镍原子在电镀过程中非选择性地沉积在玻璃表面。使用氯化亚铜。敏化液中使用离子代替亚锡离子，解决了氯化亚锡带来的非选择性问题。本实验还创新性地提出了非敏化镀镍方法，省去了敏化步骤，依次经过催化、活化、还原。该方法制备的镀前处理液稳定，可长期使用。最后采用磁控溅射法制备镍层并与化学镀镍层进行比较。通过目视外观检查、划格附着力测量和扫描电子显微镜观察来测试镀镍质量。采用四探头方块电阻测试仪测量镀镍前后的方块电阻，并采用能谱仪测试镍镀层的成分。。