电镀废水中各种重金属废水处理反应原理及控制条件

电镀废水中各种重金属废水处理反应原理及控制条件

1.精选优质文档 - 竭诚为您提供精选优质文档 - 竭诚为您提供专注-专注-专业 专注-专注-专业精选优质文档-竭诚为您提供专注-专注-专业重金属废水反应原理及控制条件TOC o 1-3 hzu 1 含铬废水预处理废水包括镀前准备过程中除油、除油等工序产生的清洗废水。 主要污染物为有机物、悬浮物、石油类、磷酸盐和表面活性剂等。电镀含铬废水中铬以Cr6+和Cr3+两种形式存在，其中Cr6+毒性最强。 处理含铬废水的方法有多种，常用的方法有化学法、电解法、离子交换法等。电镀废水中的六价铬主要以CrO42和CrO42两种形式存在。 酸性条件下，六价铬主要以CrO42形式存在，碱性条件下以CrO42形式存在。

2. 公式存在。 六价铬的还原在酸性条件下反应很快，一般要求pH为4，通常控制pH为2.53。 常用的还原剂有：焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、连二亚硫酸钠、硫代硫酸钠、硫酸亚铁、二氧化硫、水合肼、铁屑、铁粉等。Cr3+与Cr(OH)沉淀的最佳pH还原后的3为79，因此铬还原后的废水应进行中和。 (1)亚硫酸盐还原法目前电镀厂含铬废水化学还原处理常用亚硫酸氢钠或亚硫酸钠作为还原剂。 有时也使用焦磷酸钠。 六价铬与还原剂亚硫酸氢钠反应：++ =2Cr2（SO4）3++++=Cr2（SO4）3++5H2

3、O还原后，用NaOH中和至pH=78，使Cr3+形成Cr(OH)3沉淀。 亚硫酸盐还原法的工艺参数控制如下：废水中六价铬的浓度一般控制在/L； 废水的pH值为2.53。 还原剂的理论用量为（重量比）：亚硫酸氢钠六价铬=41 焦亚硫酸钠六价铬=31 亚硫酸钠六价铬=41 投料比不宜太大，否则会浪费药剂，并可能生成Cr2 (OH)2SO32未能沉淀； ORP=还原反应时间约30分钟； 氢氧化铬沉淀pH控制在78。沉淀剂可以是石灰、碳酸钠或氢氧化钠，可根据实际情况选择。 2、含氰废水 含氰废水来源于氰化铜、碱性氰化金、中性和酸性镀金、氰化银、氰化铜锡合金电镀、仿金电镀等。

4、电镀及其他含氰电镀工艺中，废水中的主要污染物为氰化物、重金属离子（以络合物状态存在）等。氰化物镀铜，氰化物镀铜是一种暂时被淘汰的镀铜方法。 主要成分氰化亚铜、氰化钠、Cu(CN)2-以络离子形式存在。 铜离子被氧化，氰化物也被氧化，而Fe(CN)64-被氧化后仍以络离子形式存在，因此氰化物离子不能解离和氧化，增加了破氰的难度。 氰化物镀锌在镀锌工艺中所占的比例并不高。采用碱性氯化法，分两阶段破坏氰化物。 第一阶段为不完全氧化，将氰化物氧化成氰酸盐：CN+OCl+H2O=CNCl+2OH CNCl+2OH=CNO+Cl+H2O CN与OCl反应先生成CNCl，然后水解为CNO； 反应速度取决于pH值、温度和有效氯浓度。 pH值越高，水温越高，有效

5、氯浓度越高，水解速度越快。 据报道，CNO的毒性仅为CN毒性的千分之一； pH=1011、ORP=第二阶段为完全氧化阶段，将氰酸盐进一步氧化分解为二氧化碳和气体：2CNO+3ClO+H2O=2CO2+N2+3Cl+2OH； pH=7.58.5，ORP=药物剂量 第一阶段 CN:Cl2=1:3 第二阶段 CN:Cl2=1:4 两阶段总数为 CN:Cl2=1:78。 第三阶段是凝固阶段。 添加氢氧化钠并充分搅拌。 整个过程监测混合溶液的pH值，为9.5-10.5。 同时添加PAC，形成悬浮物（此pH条件可有效去除铜） 3、含镍废水 含镍电镀废水是指镀镍时产生的清洗水。 一般分为电镀镍废水和化学废水

6.了解镀镍废水。 电解镀镍废水的成分比较简单，一般由镍离子和硫酸根组成。 化学镀镍废水成分复杂。 废水中除镍离子外，还含有大量络合剂，如柠檬酸、酒石酸、次磷酸钠等。 电镀废水处理标准中，国家表1标准要求镍排放标准不高于1mg/L，国家表2标准要求镍排放标准不高于0.5mg/L，国家表3标准要求镍排放标准不得高于0.1mg/L。 电镀废水处理工程规范要求含镍废水需单独收集，镍需处理达标后方可排放至综合池。 对于电镀含镍废水和化学镀镍废水，可采用化学沉淀法进行处理。 化学沉淀法不需要复杂的设备，其中电镀含镍废水可直接加碱至11、PAC混凝，沉淀出水，镍即可达标。 如果含镍废水与预处理废水混合，则需在处理后加碱。

7、废水中加入少量重金属捕收剂，进行螯合反应。 重金属捕收剂可将镍离子从低浓度处理至标准浓度。 反应原理：NI2+ +2OH- = NI(OH)2（沉淀） 反应条件：pH=1011 对于含有络合剂的含镍废水，应首先考虑络合，然后进行化学沉淀。 破络方法：次氯酸钠在酸性条件下破络； （EDTA、胺类）控制氧化池内pH值2-3，ORP值450-500mV。 由于原水呈中性或碱性，将其调节至酸性pH 2-3，过程中消耗大量酸液。 破络后需将pH值调至8-9左右的碱性，以沉淀铜。 还消耗大量碱液，处理成本高。在碱性条件下，次氯酸钠破络； （柠檬酸、酒石酸）氧化池内pH值控制在10以上，双氧水破络，原水水质6-8

8、在该条件下，过氧化氢的破络效果优于次氯酸钠。 双氧水用量为0.34ml/l()，最佳反应时间为40分钟，破络后沉淀最佳pH=10.5，但会造成污泥上浮； 臭氧分解复合物； 在碱性条件下，臭氧分子在OH-的催化下很容易分解成羟基自由基。 羟基自由基比臭氧具有更强的氧化性能，反应速度更快，氧化更完全。 最佳反应时间为30分钟，pH控制在7（910）以上。 芬顿氧化主要采用H2O2和Fe2+结合的试剂作为氧化剂，在酸性条件下产生强氧化性羟基自由基，使大分子有机物开环，最终将其氧化分解。 （芬顿氧化技术有一定的适用范围，对于含有苯环的物质有很好的去除效果）芬顿试剂的主要试剂是硫酸亚铁、过氧化氢和碱。首先，通过正交实验，

9、硫酸亚铁和双氧水的用量比例确定（一旦控制不好很容易重新着色）。 然后先调节pH至24，加入硫酸亚铁，再加入过氧化氢，然后按照pH调节和污泥沉降处理的顺序加入芬顿试剂。 加入硫酸亚铁后，反应约15分钟，然后加入过氧化氢。 反应20-40分钟后，加碱调节pH值，处理效果会更好。 如果确定芬顿反应完全，可以在水中添加非离子聚丙烯酰胺，这可以帮助污泥加速沉淀。 硫酸亚铁对一些高色度、高COD废水的去除率可达90%-95%。 （参考值ORP=350mv） CaO、Bacl2（钡盐） 4、含锌废水 锌是两性元素。 其氢氧化物不溶于水，呈弱碱性和弱酸性，故其化学式可写为： 基本形式：Zn(OH)

10. 2、酸性配方：。 由于它是两性的，因此可以溶于强酸或强碱。 在锌酸盐溶液中加入适量的碱，可以析出Zn(0H)2的白色沉淀。 添加过量的碱会使沉淀再次溶解； 但反之，在锌酸盐溶液中加入适量的酸，也可析出Zn(0H)2白色沉淀，加入过量的酸，沉淀又会溶解。 锌的氢氧化物是两性化合物。 pH值过高或过低，都会导致沉淀物重新溶解，导致出水超标。 因此，在化学沉淀处理含锌废水过程中，应注意pH值的控制。 反应原理 Zn2+ + 2OH- =Zn(OH)2 (沉淀) 反应条件：ph=8.59、5.含铜废水氰化镀铜主要用于多层电镀的底层或中镀，如电镀铜/镍、铜/镍/铬、铜/铜/镍/铬、镍/铜/镍/铬等。由于金属铜的电极电位比较正，在钢件中

11、表面镀铜属于阴极镀层，因此对基材没有电化学保护作用。 装饰性单层镀铜（如灯具）必须用透明油漆保护。 电路板和电镀的含铜废水大部分是络合铜，也存在游离铜。 可以通过碱调节调节水中存在的游离金属离子，使水中的金属元素达到共沉淀值，也可以采用聚合硫酸铁、聚合氯化铝等高分子混凝剂进行强化混凝处理。 然而，水中的铜络合物非常稳定，很难通过上述方法去除。 需要先将其分解。 络合铜废水除二价铜离子（Cu2+）外，还含有大量络合铜。电路板废水中与铜离子形成的络合物主要有三类，即铜氨络合物Cu(NH3)42+、铜氯络合物Cu(Cl-)42+和铜EDTA络合物Cu(EDTA)2+，有些线路板厂会络合废水

12、分为氨铜废水（主要污染物为铜氨络合物Cu(NH3)2+4）和化工铜废水（主要污染物为铜EDTA络合物Cu(EDTA)2+）。 对于铜氨络合物Cu(NH3)42+、铜氯络合物Cu(Cl-)42+和铜EDTA络合物Cu(EDTA)2+来说，硫酸亚铁在酸性条件下用作络合物破坏剂。 其机理是绿矾溶解后生成的Fe+能将铜络合物中的二价铜离子还原为一价铜离子。 由一价铜离子、氨、DETA和氯离子形成的络合物不再稳定。 ，一价铜离子在水中易与氢氧根离子反应生成氢氧化物，与亚铜沉淀。以Cu(CN)32-为例（氰化物镀铜时，铜离子多以一价存在）。 由于铜很容易从+1价氧化成+2价，虽然Cu(CN)32-的络离子稳定常数较大，但二价

13、铜不能与氰化物离子形成稳定的络合物，因此Cu(CN)32-仍容易被氧化。 其结果，+1价铜变为+2价铜，氰化物被氧化。 Fe(CN)64- 则不然。 由于其稳定常数较大，在有效氯浓度较低或反应温度较低时一般不易被氧化。 当加强反应条件将价铁氧化成价态时，Fe(CN)63-仍很稳定，因此氰化物离子不会解离或氧化。 反应原理：Cu2+ +2OH- = Cu(OH)2（沉淀） 反应条件：pH=9.510.5 对于含有络合剂的含铜废水，应首先考虑络合，然后进行化学沉淀。络合破坏反应硫化钠在含络合铜的废水中添加硫化物（硫化钠），然后添加氢氧化钠，控制废水的pH值在910.之间，然后添加适量的聚丙烯酰胺（PAM）形成解决方案。 学历非常高

14、微小的不溶性沉淀硫化铜（CuS）在PAM的作用下去除废水中的铜离子。 硫化物沉淀法可将含络合铜废水中的铜含量降低至0.5mg/L以下。 在ph=910时，硫化钠中的硫离子可与二价铜离子形成稳定的化合物，其稳定常数高于二价铜与氨、EDTA、氯离子等取代，形成黑色硫化钠沉淀。 但CuS有形成胶体溶液的倾向（可穿透滤纸），需要添加絮凝剂形成大的絮凝物并沉降在一起。 采用该方法处理PCB复合废水时，往往由于沉淀池沉淀效果差，出水不能稳定达标。 另外，由于没有硫化物在线监测仪器，工程中往往需要添加过量的Na2S。 S2-过量导致废水产生恶臭，需要添加亚铁盐沉淀，否则会造成二次污染。硫酸亚铁由于

15、酸性条件下，EDTA-Cu的稳定常数小于EDTA-Fe3+的稳定常数（pH=4，EDTA-Cu的稳定常数对数值 = 10.2，稳定常数对数值） EDTA-Fe3+ = 14.7)，因此，在PCB络合废水中添加Fe3+可以置换Cu2+，即将络合铜离子转化为游离铜离子，然后提高废水的pH值，使Cu2+完全沉淀。 实际工程中，添加硫酸亚铁。 在酸性条件下，通过机械或空气搅拌，部分Fe2+被氧化为Fe3+（有资料认为，在此过程中，二价铜离子会被还原为一价亚铜离子，一价铜离子与氨形成的络合物，DETA） ，而氯离子不再稳定，一价铜离子容易与水中的氢氧根离子反应生成氢氧化物并与亚铜沉淀。

16.) 用Fe3+代替EDTA-Cu中的Cu2+，然后加入NaOH将pH值提高到9左右，生成Cu(OH)2、Fe(OH)3和Fe(OH)2沉淀。 使用Fe(OH)3，生成的明矾花较大，吸附力较强，沉淀速度较快，加快了铜的去除。 该方法在工程中有很多成功案例，出水总铜一般小于0.5mg/L。 但它也有其缺点：用量大，产生污泥较多。 氧化法是在废水中添加强氧化剂氧化铜配位离子，释放出Cu2+，然后加碱沉淀。 常用的氧化剂有NaCLO、试剂等。采用试剂氧化法处理电路板沉铜车间排出的含EDTA-Cu的废水。 最佳反应条件为：pH值3左右，反应时间1小时，H2O2/COD=2.0，加入FeSO4。

17、用量10g/L，达到去除络合铜离子、降低COD的目的。 氧化破除法不仅可以沉淀Cu2+，还可以降低废水中的COD和NH3-N。 其简单易行，但需要大量氧化剂且化学品成本较高，因此厂家很少使用。 （请参考含镍废水的分解）次氯酸钠氧化分解，可以参考含氰废水处理工艺（氰化铜）-氯氧化法。 重金属捕收剂是一种水溶性螯合化合物，能与多种重金属形成稳定的不溶物。 重金属捕集剂用于与铜离子结合形成更稳定的螯合物，形成沉淀去除。 当DTCR pH为7、DTCR/FeCl3为14、搅拌时间为40分钟时，铜去除率高达99.8%，且不受共存络合物的影响。采用重金属捕集剂处理络合铜废水操作简便，但重金属捕集剂

18、藏品普遍价格较高，加工成本较高。 6、含砷废水含砷废水呈酸性和碱性，一般还含有其他重金属离子。 含砷废水中砷的存在形式受pH影响较大。 在中性条件下，可溶砷量达到最大，随着pH值升高或降低，可溶砷量会减少。 当pH为5.0时，溶液中的砷主要以无机砷的形式存在。 当pH为6.5时，有机砷为主要形态。 但由于含砷废水来源并不单一，其成分也复杂多变。 处理含砷废水的传统方法主要采用化学沉淀法，根据具体情况可分为砷酸钙法和硫化砷法。 砷酸钙法是利用石灰、铁盐、高分子絮凝剂使砷与这些物质发生反应，达到中和、除砷、吸附、产生架桥和共沉淀作用，从而达到废水中除砷的目的。 反应原理：3Ca(OH)2 + 2H

19. 3AsO3 Ca3(AsO3)2 (悬浮固体) + 6H2O 3Ca(OH)2 + Ca3(AsO4)2 (悬浮固体) + 6H2O 当水中存在大量钙离子时，亚砷酸盐和砷酸盐会与过量的钙离子反应形成亚砷酸钙和砷酸钙沉淀。 在沉淀过程中，不溶性砷酸钙的形成主要与钙离子的浓度有关，也与氢氧根离子的浓度有关。 当pH为10时，砷酸盐、亚砷酸盐和氢氧化物被置换，使部分砷溶解在水中，因此终点pH值控制在10以下； 石灰-铁盐法首先用石灰中和含砷废水，使pH=1011（大多数含砷废水呈酸性），然后加入过氧化氢和铁盐（亚铁，类似于）将砷氧化与石灰反应生成砷酸钙沉淀。 亚铁离子也被氧化和水解形成氢氧化铁。

20、由于氢氧化铁胶体表面积大，吸附力强，能吸附、共沉淀As2O3、Ca3(AsO3)2、Ca3(AsO4)2等杂质。 Ca(OH)2 +H2SO4=CaSO4+ 4H2O +Fe3+ = +3H+ 3Ca(OH)2 +=Ca3(AsO4)2 + 3H2O Fe(OH)3+ = +3H2O 由于砷酸铁不溶于水，砷铁酸在水中仍有一定的溶解度，因此需要将废水中的三价砷氧化为五价砷，然后进行处理才能得到满意的效果。 另外，生产中使用的铁盐不是三价铁，而是FeSO4，也需要氧化。 为了不引入新的杂质，生产时使用过氧化氢作为氧化剂。

21、+H2O2=+H2O (7) 2Fe(OH)2+ H2O2 =2Fe(OH)3 (8) 在除砷过程中，如果废水中存在锑盐，也会发生类似的反应并被去除。 7、含银废水从含银废水中回收银的方法主要有沉淀法、电解法、离子交换法和吸附法。 从含银废水中回收银的沉淀法是在含银废水中添加适当的阴离子，使废水中的银离子以沉淀的形式富集。 过滤、洗涤、干燥后，得到沉淀形式的银。 应用最广泛的沉淀法是氯化银沉淀法。 该方法通过加入氯化钠或盐酸溶液使银离子变成氯化银沉淀来实现银离子的富集。 它可以克服银离子与其他金属离子共沉淀的缺陷，因此氯化银沉淀法是从混有多种金属离子的废液中回收银的首选方法。

22、为保证银离子完全沉淀，一般添加过量的沉淀剂。 但过多过量也会形成可溶性氯化银络合物，增加溶解度。 硫化银沉淀法通过添加Na2S使银转化为Ag2S沉淀来实现银的富集。 由于Na2S还容易与其他金属离子一起沉淀，如果含银废液中还含有其他金属离子，则得到的Ag2S沉淀中也会含有其他金属离子沉淀，导致Ag2S沉淀的纯度较低。反应原理：（1） Ag-+OH=AgOH（沉淀） 2AgOH(s)=Ag2O+H2O (2) Cl-+ Ag+=AgCl（沉淀） 氰化镀最佳pH=6.3-10.7（理论值） 处理银废水，次氯酸钠可以用于分解氰化物，但必须控制次氯酸钠的用量。 氰化物自由基可被完全氧化，银沉淀回收率可达90%。 请参阅

23、取含氰化物废水。 8、含氟废水。 多晶硅生产废水主要由三个工序产生。 其中，制绒工艺和蚀刻工艺的废水中含有氟离子，还含有酸碱污染。 二次清洗工段废水的主要污染特征是强酸性（主要是氢氟酸）、氟离子污染。 对于含氟（酸性）废水，主要任务是去除氟离子并调节至合适的pH值。 因此，工艺过程中选择物理化学方法，调节废水至合适的pH值，同时添加钙化合物，利用F与Ca2+反应生成不溶性CaF2沉淀，从而转移液体中的氟离子相到固相。 ，从水中取出。 反应原理如下： Ca2+ FCaF2（沉淀） 含氟废水PH调节 从操作管理的角度来看，用氢氧化钠进行中和是比较理想的。 从运行成本来看，虽然石灰可以发生中和反应，钙与氟反应形成氟化钙沉淀，

24、达到除氟的效果。 但石灰渣产生量大，产生的污泥属于危险废物，处理成本很高。 因此，“烧碱+氯化钙”的组合可以实现化学品整体成本的相对平衡。 Ph=12，需要较高的钙氟比。 混凝反应阶段：铝盐絮凝除氟过程中产生的具有大表面积的非晶态Al(OH)3(am)原聚体对氟离子产生氢键吸附。 氟离子半径小，电负性强。 这种吸附方法很容易发生。 络合沉淀：F-可与Al3+形成6种络合物，从AlF2+、AlF2+、AlF3到AlF63-，通过络合沉淀除去F-。络合离子方程式如下： F-+ Al3+AlF2+ AlF2+ AlF3+ AlF4-+ AlF52-+ AlF63-9。 含磷废水除磷的钙法是

25、沉淀除磷法中，化学沉淀剂主要有铝离子、铁离子和钙离子。 其中，石灰与磷酸盐生成的羟基磷灰石平衡常数最大，除磷效果最好。 在含磷废水的溶液中加入石灰，钙离子与磷酸盐反应生成沉淀。 反应如下： 5Ca2+7OH-+-=Ca5(OH)(PO4)3+6H2O(1) 副反应： Ca2+CO32-=CaCO3(2) 反应（平衡常数为1） KS0 = 10- 55.9。 从上述反应可以看出，除磷效率取决于阴离子的相对浓度和pH值。 由式（1）可以看出，磷酸盐在碱性条件下与钙离子反应生成羟基磷酸钙，随着pH值的升高，反应趋于完全。 当pH值大于10时，除磷效果较好，可保证出水磷酸盐质量浓度达到9.0。 降水效率将急剧下降。 只不过汞含量不能降至1

26、该方法除了低于0g/L的缺点外，还有其他缺点：当硫化物大量过量时，特别是当S2-过量时，会形成可溶性汞-硫络合物，由于倾向于生成HgS22-络离子，从而增加HgS的溶解度，不利于汞的去除。 因此，必须控制沉淀剂S2-的浓度，不能太多。 硫化物过量程度难以监测； 处理后的水中残留的硫会造成污染问题。 近年来，各国为了使该方法更加完善和完善，进行了广泛的研究，并将该方法与其他方法结合使用，取得了良好的效果。 例如：与还原法、电解法等结合使用，可提高沉淀速度和除汞效率； 添加适量的FeSO4等可以消除因添加过量硫化物造成的H2S污染； 与气浮法等结合使用，可大大缩短处理时间，提高效率。由于硫化物沉淀颗粒很细，大部分呈悬浮状态

27、废水中，特别是低温下产生的硫化汞非常细小或分散，很难沉淀和过滤除去。 根据溶度积规则，在硫化物沉淀转化法中添加适量的铁盐或锌盐，在添加铁或铝系混凝剂的絮凝沉降法中。 有的工厂采用氢硫化钠和明矾两步法处理汞含量为25mg/L的废水。 处理后，排放水中汞含量可降至0.0060.05mg/L。 由于共沉淀作用，添加明矾可以提高沉淀效率。 硫化物沉淀法造成的环境问题是富汞沉淀污泥的不断积累。 该污泥必须以环境可接受的方式进行处置或进一步用于回收利用。 HG。 有机汞废水需先用氯气氧化分解，然后采用硫化物沉淀法脱汞。 11、氢氟酸回收氢氟酸广泛应用于光伏、冶金、玻璃等行业的蚀刻和清洗工艺。 使用过的氢氟酸废液的有效率一般为110%。

28、浓缩，但含有大量悬浮物和颗粒物，使得废液无法回用，传统的沉淀分离工艺无法实现氢氟酸废液中悬浮物与氢氟酸的有效分离。 由于氢氟酸废液中悬浮颗粒物浓度很高，不适合采用传统的过滤器、滤芯、袋式过滤器进行拦截，也不适合超滤分离。 同时，颗粒物的沉降性极差，不宜采用沉淀或气体。 采用浮选法进行固液分离。 由于氢氟酸需要回收，且不能添加任何化学品，因此传统的沉淀池工艺无法用于固液分离。 12磨水废水机械抛光（CMP）工艺已被广泛用于半导体工业的晶圆制造过程中，并且是晶圆表面综合平面化的有效过程。 CMP废水包含由抛光液，晶片本身以及随后的CMP清洁过程产生的各种无机和有机污染物。 大多数无机物质都以氧化物的形式存在。

29.目前，自抛光液体中的主要非溶无机物质包括SiO2，Al2O3和CEO2（氧化岩岩），以及一些在磨碎过程中从晶片中掉落的无机物质（例如：材料和低材料和低的无机物质介电材料等）。 溶解的无机物质包括可溶性硅酸盐和氧化剂。 从结晶硅产生的废水主要含有切割液，聚乙烯甘油，碱清洁剂，硅粉和碳化硅。 它的特征是高COD和SS内容物，BOD严重短缺以及非常差的生物降解性。 CMP废水中的有机物包括表面活性剂，络合剂和其他物质。 为了清除晶圆表面上的上述物质，必须在随后的CMP清洁过程中使用大量的超纯水。 研磨废水是由机械研磨产生的，废水中的主要污染因子是SS，浊度，磨水液等。对于这种废水，中国使用最广泛和技术成熟的方法是凝结的。

30.方法处理，使用碱来调节pH值并添加铝盐凝结剂，以便可以以沉淀的形式将其中的SS与溶液的主体分开并纯化。 絮凝和沉降是水中颗粒物质的絮凝和沉积过程。 使用碱来调节pH值（89.5，略微碱性，因此Cu+2，Fe+2，Fe+3和其他离子可以完全形成氢氧化物）。 将凝结剂添加到水中后，悬浮物的胶体和分散将发生。 这些颗粒在分子力的相互作用下形成泡沫，它们相互碰撞并在沉降过程中凝聚。 它们的大小和质量继续增加，定居速度继续增加。 悬浮固体的去除率不仅取决于沉积速度，而且与沉积深度有关。 13.结晶硅废水晶体硅是制造集成电路和光伏太阳能电池的关键基本材料，也是该国开发信息行业和光伏新能源行业的重要基石。大量具有复杂成分的工业废水。

31.例如，将单晶硅棒切成切片，通常约0.3毫米。 硅晶片经历了形成，抛光和清洁等过程，成为要加工的原始硅晶片。 由于生产中使用的化学品是用于清洁，腐蚀和掺杂的无机酸和碱，因此包括：H2 SO4，NH3，H2O2，HCl，HCl，HF，HF，H3 PO4，NaOH，NaOH，IP4等。太阳能光伏电池的产生包括酸碱污水，含氟化物的污水等。以下是污水产生的主要方面：（1）表面腐蚀：制造电池之前，必须准备硅晶片的表面，包括化学物质清洁硅晶片和硅晶片的表面腐蚀。 硅晶片上染色的各种杂质通过化学清洁去除。 通过表面蚀刻去除硅晶片表面上的切割损伤，以获得适合粘结需求的硅表面。 （2）纹理：单晶硅的纹理过程是碱性的，对

32.将氢氧化钠（混合）溶液用于各向异性蚀刻单晶硅晶片以制备纹理。 多晶硅的纹理过程是酸性纹理，它通过添加铬酸和氢氟酸来利用铬酸的强氧化特性。 切除切割后的硅晶片上的污垢，从而在硅晶片表面产生球形腐蚀坑，从而增强了硅晶片表面上的光吸收，可降低表面反射率，并实现形成形成的目的硅晶片上的抗反射机制。 （3）磷硅酸盐玻璃（PSG）和边缘Pn连接的去除：通常，将硅晶片浸入稀释的HF中以去除磷酸硅酸盐玻璃。 同时，除去扩散过程中硅晶片的外围表面上形成的扩散层被去除以消除电池的正极和负电极之间的短路。 生产废水的组成非常复杂，包括氟，酸和碱，有机废水和大量SS。 因此，治疗过程的原则应集中于屈光和中和，并结合去除有机物的治疗过程，以实现更好的治疗结果。

33.该过程的原理是：添加可以用氟沉淀到污水中的物质，例如：钙离子与氟离子结合形成不溶性钙（氟化钙的溶解性产物为31 4 10-11）。 CaCl2和氟化物离子之间的交换反应：CaCl2 + 2f- = CAF2（沉淀） + 2Cl-，然后添加絮凝剂以引起絮凝和沉淀。 例如：当溶解在铝盐或铁盐中时，氟化钙会形成复合物。 同时，添加OH或水解碱性物质以实现中和污水的目的。 最后，它被传递到微生物治疗系统中，以去除水中的有机物，以使污水达到排放标准。 （请参阅含氟的废水处理）废水是在不同部门生产的，并且具有不同的特征：1。多晶硅硅废水：它是通过将三氯烷烷烷烷酯在多晶硅烷硅硅降低过程中产生的尾巴产生的。 主要反应是： + H2SI + HCl（产品反应）

34. ++ HCl（尾气冲洗）废水中的主要物质是：sio2.hcl硅烷醇和脱水为多硅氧烷，硅酸，转移氧化。大的。 其中一些聚集成团块，并漂浮在水面上。 2.切割，研磨和投掷废水来自三个过程：（1）切片过程主要是：石蜡蜡，冷却水等。废水中的主要物质是：石蜡蜡，硅粉。 （2）抛光过程中研磨流体的成分是：由乳液和肥皂制成的浮动液体。 废水中的主要物质是：表面活性剂。 二氧化硅粉。 （3）抛光过程中抛光液的成分：开萘烃，废水中的主要物质是：物质是：硅粉和碳氢化合物有机物。 在三个废水的混合物中，有灰色的乳液。 3.硅树脂废水是：在铂酸的条件下氯丙烷与三氯硅烷的添加反应作为催化剂，以生成氯丙基三氯硅烷，然后粗糙地蒸馏以产生

35.丙烯氯化物瓶中的残留液体和残留液体是通过用水洗涤而产生的。 废水中的主要物质是：三氯烷，氯丙烷和HCl。 氯丙烷和HCl的来源是通过氯丙烯的水解产生的，因此废水是酸性的。 ，反应公式为：CH2 = CH-CH-CH2CL+= CH-CH2-OH = H2O在废水混合后，废水变成酸性，具有降低的灰色乳白色（强酸具有一定的去除），一定但是有胶体。 ，主要是由硅酸，分代酸和硅烷酚分子之间的脱水和多头敏化引起的。 14.含有铅的废水含量废水来自各种电池研讨会，矿物加工厂，石化植物等。电池工业是含铅废水的主要来源。 据报道，生产的每个电池都会导致4.54-铅损失，其次是石油产生汽油添加剂。尽管铅并不像铜和镉那样普遍，但它是

36.废水中的常见组件。 特别是，电池工厂在生产过程中生产大量含铅的废水。 废水中的铅含量超过了全国标准一百倍，对地下水源构成了巨大威胁。 如果未经治疗任意解散，它将不可避免地对环境和社会造成巨大伤害。 。 中国已经报道了含铅废水的处理过程，通常用于降水和吸附等工程项目。 还存在氧化还原方法，铁氧化法，电解方法和生物学方法的研究和应用。 化学沉淀法当前是最常用的方法。 它可以分为一种氢氧化物沉淀法，B硫化物沉淀法，C碳酸盐沉淀法等。所使用的沉淀物为：石灰，苛性苏打，硫化物盐，苏打灰和磷酸盐。 其中，氢氧化物沉淀法被广泛使用。 降水的去除机制是PB2+在水中的溶解度与pH值有关。 通过调整含铅废水的pH值形成沉淀的Pb（OH）2，可以去除PB2+。

37.通常，当pH值达到6时，PB2+开始形成沉淀。 当pH达到9.5时，所有PB2+都形成了沉淀。 由于铅是一种两性物质，因此当碱过大时，PB（OH）2将重新安息，需要控制pH值。 根据理论，pH值不应大于9.5。 15含镉的废水镉用作电池，塑料以及颜料和试剂的生产物或催化剂； 由于其耐腐蚀性和抗摩擦力，镉也是一种生产不锈钢，电镀以及雷达和电视荧光筛网的原材料。 随着电池行业的开发，镍卡电池已被广泛用于其出色的性能。 镉的抗腐蚀和耐磨性也使其在合金和表面处理行业中流行。 但是，镉的应用也带来了镉污染。 镉污染的主要来源包括：非有产金属采矿和冶炼，镉复合行业，电池制造业和电镀工业。在电镀工业中，镉镀金主要采用氰化物工艺，主要产生含水量。

38.将其分为CD2+和CN-，CD（CN）42-（复杂）。 漂白粉末氧化方法可用于治疗这种废水。 采矿和冶炼废水的组成相对复杂。 除镉外，它还包含铜，铅，锌，镍和其他金属离子。 如果未经治疗直接排放，它将对土壤和水体造成更大的污染。 通常有必要处理这种废水。 除去镉时，使用降水法和沉淀浮选方法一起去除其他金属。 目前，实际含镉的废水处理方法包括氢氧化物或硫化物沉淀，吸附和离子交换。 氧化还原方法，铁氧体方法，膜分离方法等。由于中和和降水法很容易操作，具有成熟的技术，可以节省投资并具有广泛的中和剂的来源，因此最常用的方法是中和方法.的废水通常含有络合剂（例如氰化物），并且镉离子很难沉淀。 如果废水中有大量的络合剂，则必须考虑破坏这些络合剂，因此电解质

39.在电镀废液和冲洗水的电镀中，镉沉淀的有效程度取决于络合剂的预处理。 处理含镉的废水的最常用方法是中和和降水。 CD2+在碱性状态下水解形成Cd（OH）2沉淀，含镉的废水通常含有其他离子，例如CN-，NH3等，CN-，NH3和 Ion络合，会影响CD2+ CD2+的水解沉淀，因此废水处理必须首先去除CN-和NH3。 由于氰化物是一种剧毒物质，因此治疗后指标必须绝对符合标准。 原始水的氰化物浓度随时变化，因此将两个池用于间歇性治疗。 氯的量随着浓度的变化而增加。 下一步的治疗只能在水质达到标准后进行水质后进行。 通常使用碱性氯化法，即在第一步（称为不完全氧化）中添加基于氯的氧化剂，以将氰化物氧化剂氧化为氰化物（称为不完全氧化），并在第二步中（称为不完全氧化氧化物）（称为不完全氧化氧化物） ）。 完全氧化）。 在工程学中，通常将pH调节至8.5-9并加入氯一小时以将氰化物氧化为氮和二氧化碳。 （请参阅含氰化物的废水处理）中和降水法，CD2+在碱性状态下水解形成不溶于且稳定的CD（OH）2沉淀物。 CN-，NH3和镉离子的络合将影响CD2+的水解沉淀，因此废水处理必须首先去除CN-和NH3。 有必要添加NACLO或其他基于氯的氧化物来破坏氰化物。 碱性状态下镉离子水解的反应公式如下：CD2+2H2O = CD（OH）2+2H+。 随着碱度的增加，该反应向右移动，这对CD的沉淀（OH）2有益。 但是，随着碱度的增加，HCDO2-ION很容易产生，从而导致水溶液中的总镉增加。 因此，应在1112处准确控制pH，以完全沉淀镉离子。